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J-GLOBAL ID：201002298305485391   整理番号：10A0379984

磁歪膜厚比で制御したFe-Sm/Si/Fe-Tb三層複合体の磁場誘起運動

Magnetic Field Induced Motion of Three Layered Fe-Sm/Si/Fe-Tb Composites Varied by Thickness Ratio of Magnetostrictive Films

著者 (4件)： 佐宗駿 (東海大学大学院工学研究科金属材料学専攻) ,  松村義人 (東海大学大学院理工学研究科) ,  西義武 (東海大学大学院工学研究科金属材料学専攻) ,  西義武 (東海大学大学院理工学研究科)
資料名： 日本金属学会誌  (Journal of the Japan Institute of Metals and Materials)
巻： 74  号： 4  ページ： 264-268 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： G0023A  ISSN： 0021-4876  CODEN： NIKGAV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 特性の異なる2種類の磁歪材料をシリコン基板の両面に成膜したFe-Sm/Si/Fe-Tb三層複合体を作製し,2種類の磁歪特性を合わせ持つ運動素子の作製に成功した。本研究では,磁歪関連特性を必要に応じて自由に制御するため,DCマグネトロンスパッタリング法を用いて膜厚を変化させた三層複合体の磁場誘起運動を測定,評価した。膜厚比は運動複合体の磁歪,磁場誘起曲げ運動歪や磁場誘起曲げ運動力に強く寄与することが確認された。弱い印加磁場ではFe-Sm薄膜の比率,比較的強い磁場ではFe-Tb薄膜の比率が運動の支配因子となっていると考察された。磁歪材料の膜厚比を変化させることにより,比率に応じて複合体の運動特性を制御することに成功した。

シソーラス用語： *磁気歪材料 ,  構造 ,  多層膜 ,  *鉄合金 ,  サマリウム含有合金 ,  テルビウム含有合金 ,  金属間化合物 ,  ウエハ【IC】 ,  マグネトロンスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  膜厚 ,  依存性 ,  *磁気的性質 ,  磁歪 ,  磁場効果 ,  曲げ変形 ,  曲げ応力 ,  運動
準シソーラス用語： 三層構造 ,  シリコン基板 ,  膜厚依存性

分類 (1件)： 磁性材料  (NA04040H)

引用文献 (12件)：

• 1) Y. Hayashi, T. Honda, M. Yamaguchi and K. I. Arai: The Paper of Technical Meeting on Magnetics IEE Japan MAG-93, (1993) pp. 95-102.
• 2) J. J. Rhyne, S. J. Pickart and H. Alperin: Phys. Rev. Lett. 29(1972) 1562.
• 3) A. E. Clark and H. S. Belson: Phys. Rev. B 5(1972) 3642-3644.
• 4) E. Sato and T. Fujita: Trans. Jpn. Soc. Mech. Eng. C 73(2007) 1723-1730.
• 5) I. Nakano: J. Jpn. Soc. Precision Eng. 60(2001) 1711.

タイトルに関連する用語 (9件)： 磁歪 ,  膜厚 ,  Fe ,  Sm ,  Si ,  Tb ,  複合体 ,  磁場誘起 ,  運動