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J-GLOBAL ID：201002298528699156   整理番号：10A0519119

有機物/シリコン界面の光熱的マイクロ及びナノパターン形成

Photothermal Micro- and Nanopatterning of Organic/Silicon Interfaces

著者 (5件)： KLINGEBIEL Benjamin ,  SCHERES Luc (Wageningen Univ., Wageningen, NLD) ,  FRANZKA Steffen ,  ZUILHOF Han (Wageningen Univ., Wageningen, NLD) ,  HARTMANN Nils
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 9  ページ： 6826-6831  発行年： 2010年05月04日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： H-終端Si(100)及びSi(111)面と1-アルケニル(例えば1-ヘキサデセン)または1-アルキン(例えば1-ヘキサデシン)のヒドロシリル化反応により両シリコン単結晶面に有機単分子層を形成した。1-アルケンとの反応ではいずれの場合もアルキル単分子層,1-アルキニル基とSi(100)面との反応では1,1-架橋及び1,2-架橋アルキル鎖の混合物,Si(111)面との反応ではアルケニル単分子層がそれぞれ形成された。これらの単分子層に514nm(Ar⁺イオンレーザ)のレーザ光を1/e²スポット直径2.6μmで照射すると,曝露基板上の単分子層が局所的に分解され,曝露基板の酸化が起こることを見いだした。この方法により鋭いエッジで幅が80nm以下のよく定義された単分子層縞状パターンを作製することができた。この方法では,マスクやマスタあるいはフォトレジストのようなものは不用であった。また,大気圧下で高速書き込みが可能であり,多くの応用が期待される。

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *結晶面 ,  *単分子層 ,  *光化学 ,  *周期構造 ,  パターン形成
準シソーラス用語： *縞状構造

分類 (2件)： 界面化学一般  (CB12010J) ,  光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (2件)： 1-ヘキサデシン ,  1-ヘキサデセン

タイトルに関連する用語 (4件)： 有機物 ,  シリコン ,  界面 ,  ナノパターン形成