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J-GLOBAL ID：201002298574229008   整理番号：10A1132110

ケイ素モノオキシドクラスタの構造と電子的性質の密度汎関数法研究

A Density Functional Study of the Structural and Electronic Properties of Silicon Monoxide Clusters

著者 (4件)： HU Shu-Xian (Guangzhou Inst. of Geochemistry, Chinese Acad. of Sci., Guangzhou, CHN) ,  HU Shu-Xian (Graduate School, Chinese Acad. of Sci., Beijing, CHN) ,  YU Jian-Guo (Beijing Normal Univ., Beijing, CHN) ,  ZENG Eddy Y. (Guangzhou Inst. of Geochemistry, Chinese Acad. of Sci., Guangzhou, CHN)
資料名： Journal of Physical Chemistry A  (Journal of Physical Chemistry A)
巻： 114  号： 40  ページ： 10769-10774  発行年： 2010年10月14日 
JST資料番号： C0334B  ISSN： 1089-5639  CODEN： JPCAFH  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *酸化ケイ素 ,  *クラスタ分子 ,  分子構造 ,  エネルギーギャップ ,  結合エネルギー ,  イオン化ポテンシャル ,  電子親和力 ,  依存性 ,  基底状態 ,  *電子状態 ,  密度汎関数法
準シソーラス用語： HOMO-LUMOギャップ ,  サイズ依存性

分類 (4件)： 原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  分子の性質一般  (BH05031D) ,  非金属化合物  (CD01070R) ,  物理化学一般その他  (CB01030T)

タイトルに関連する用語 (5件)： ケイ素 ,  電子 ,  性質 ,  密度汎関数法 ,  研究