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J-GLOBAL ID：201002299052292857   整理番号：10A0426147

ヘキサアリールビスイミダゾール誘導体のアモルファス薄膜における光誘起表面レリーフ形成

著者 (7件)： 香西洋明 ,  原田ゆかり ,  菊地あづさ ,  八木幹雄 ,  生方俊 ,  横山泰 ,  阿部二朗
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 90th  号： 3  ページ： 846  発行年： 2010年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ヘキサアリールビスイミダゾール(HABI)は紫外光照射により反応活性なローフィルラジカルを生成するラジカル解離型フォトクロミズムを示す。これまでにHABI誘導体の単一成分アモルファス薄膜において可逆的な光誘起表面レリーフ(PSR)形成を見いだし,PSR形成は物質移動に起因することを明らかにした。今回,HABIに導入する置換基とPSR形成との関係に着目し,そのPSR形成メカニズムについて検討した。(著者抄録)

シソーラス用語： *窒素複素環化合物 ,  *非晶質 ,  *薄膜 ,  *表面構造 ,  *光照射 ,  *物質移動 ,  *置換基効果 ,  フォトクロミズム ,  *表面反応
準シソーラス用語： *イミダゾール誘導体 ,  *表面レリーフ

分類 (5件)： イミダゾール  (CF07083X) ,  光化学一般  (CB08010U) ,  その他の光学的効果  (BM08040H) ,  その他の無触媒反応  (CB06070U) ,  反応に及ぼす構造の効果  (CF02110Z)

物質索引 (2件)： 2-(2-クロロフェニル)-4,5-ジフェニル-1H-イミダゾール ,  2,2′-ビス(2-クロロフェニル)-4,4′,5,5′-テトラフェニル-2,2′-ビ[2H-イミダゾール]

タイトルに関連する用語 (5件)： 誘導体 ,  アモルファス ,  薄膜 ,  光誘起 ,  表面レリーフ