シリレンRSiCl(R=PhC(N<sup>t</sup>Bu)<sub>2</sub>)の高収率合成法及びアルキンに対するそれの反応性: 安定なジシラシクロブテンの合成

SEN Sakya S.; ROESKY Herbert W.; STERN Daniel; HENN Julian; STALKE Dietmar

文献

J-GLOBAL ID：201002299416200589 整理番号：10A0257366

シリレンRSiCl(R=PhC(N^tBu)₂)の高収率合成法及びアルキンに対するそれの反応性: 安定なジシラシクロブテンの合成

High Yield Access to Silylene RSiCl (R = PhC(NtBu)₂) and Its Reactivity toward Alkyne: Synthesis of Stable Disilacyclobutene

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資料名：
巻： 132 号： 3 ページ： 1123-1126 発行年： 2010年01月27日
JST資料番号： C0254A ISSN： 0002-7863 CODEN： JACSAT 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

RSiHCl₂(R=PhC(N^tBu)₂)とビス-トリメチルシリルリチウムアミド及びN-複素環カルベンとのそれぞれの反応でシリレンRSiClを合成する,2つの新しい方法を開発した。前者方法で対応するシリレンが90%の収率で得られた。このシリレンをビフェニルアルキンで処理して対応するジシラシクロブテン系を得た。これは2つの五配位ケイ素中心がお互いに隣接して配列して四員環を形成している稀有な例であった。さらにこの四員環をトリメチルスズフルオリドでフッ素化し,フッ素置換ジシラシクロブテンを得た。

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有機けい素化合物 , 光化学反応,ラジカル反応

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シリレンRSiCl(R=PhC(NtBu)2)の高収率合成法及びアルキンに対するそれの反応性: 安定なジシラシクロブテンの合成

シリレンRSiCl(R=PhC(N^tBu)₂)の高収率合成法及びアルキンに対するそれの反応性: 安定なジシラシクロブテンの合成