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J-GLOBAL ID：201002299418746910   整理番号：10A0731488

回転ステージMuellerマトリクス偏光計を使った小格子箱のロバストキャラクタリゼーション

Robust characterization of small grating boxes using rotating stage Mueller matrix polarimeter

著者 (4件)： FOLDYNA M. (Ecole polytechnique, Palaiseau, FRA) ,  DE MARTINO A. (Ecole polytechnique, Palaiseau, FRA) ,  LICITRA C. (CEA, Grenoble) ,  FOUCHER J. (CEA, Grenoble)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7638  号： Pt.1  ページ： 763803.1-763803.10  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 半導体デバイス製造ではクリティカルディメンションの測定に光学的方法を使っているが,その精度はSEMやAFMとの比較で評価されている。しかし,時間がかかったり高価なAFMやSEMを使わない精度評価方法が望まれている。モデルの精度を特定する一つの方法は異なる測定配置を比較または結合することである。格子の場合,試料を回転して異なる配置で測定するのが最も簡単である。本稿は,多重方位配置で使用したMuellerマトリクス偏光計のロバスト性を示す。非線形最小二乗最小化アルゴリズムを使って各方位角に対して別々に得た台形プロファイルモデルのパラメータ最適値を格子の代表とした。さらに,方位依存次元パラメータの統計的解析は,結果の精度に関して直接の情報を与える信頼区間の実際的見積もりを与える。本研究の重要な結論は,3D-AFMの値が常に光学的方法による信頼区間の中に入っていて,他の非光学的方法と直接比較をしなくても結果の精度が見積もれたことを示している。

シソーラス用語： *回折格子 ,  *長さ測定 ,  *偏光計 ,  偏光解析法 ,  形状測定 ,  光学的測定 ,  原子間力顕微鏡 ,  走査電子顕微鏡 ,  長さ ,  半導体プロセス ,  *Mueller行列 ,  ロバスト性 ,  信頼区間
準シソーラス用語： AFM【顕微鏡】 ,  SEM【顕微鏡】 ,  エリプソメトリー ,  クリティカルディメンジョン ,  スキャトロメトリ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： ステージ ,  マトリクス ,  偏光計 ,  格子