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J-GLOBAL ID：201002299454533540   整理番号：10A0626852

大直径ECRプラズマ源の開発

Development of large diameter ECR plasma source

著者 (5件)： KAWAI Yoshinobu (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ., Kasuga, Fukuoka 816-8580, JPN) ,  UCHINO Kiichiro (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ., Kasuga, Fukuoka 816-8580, JPN) ,  MUTA Hiroshi (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ., Kasuga, Fukuoka 816-8580, JPN) ,  KAWAI Shinji (The Res. Center for Photovoltaics, National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba, Ibaraki ...) ,  ROEWF Tobias (neoplas GmbH, Walther-Rathenau-Strasse 49a, 17489 Greifswald, DEU)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 84  号： 12  ページ： 1381-1384  発行年： 2010年06月25日 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 工業的利用のためのECRプラズマ源を開発するために,大直径ECRプラズマを生成し,圧力および電力の関数としてイオン飽和電流の動径方向プロファイルを調べた。1mTorrより高い圧力に対して300mmにわたって均一なECRプラズマが生成され,電子温度が圧力の増大とともに減少することを見出した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ECRプラズマ ,  *プラズマ源 ,  *イオン電流 ,  圧力効果 ,  電子温度 ,  電力
準シソーラス用語： イオン飽和電流

分類 (1件)： プラズマ装置  (BJ02082I)

タイトルに関連する用語 (3件)： 大直径 ,  ECRプラズマ ,  開発