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J-GLOBAL ID：201002299716857776   整理番号：10A0704308

Pd層上でのストリッピングボルタンメトリー水素発生/溶解プロセスの数学モデル

The mathematical model of the stripping voltammetry hydrogen evolution/dissolution process on Pd layer

著者 (3件)： SKITAL Piotr M. (Fac. of Chemistry, Rzeszow Univ. of Technol., Wincentego Pola Str. 2, 35-959 Rzeszow, POL) ,  SANECKI Przemyslaw T. (Fac. of Chemistry, Rzeszow Univ. of Technol., Wincentego Pola Str. 2, 35-959 Rzeszow, POL) ,  KACZMARSKI Krzysztof (Fac. of Chemistry, Rzeszow Univ. of Technol., Wincentego Pola Str. 2, 35-959 Rzeszow, POL)
資料名： Electrochimica Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 55  号： 20  ページ： 5604-5609  発行年： 2010年08月01日 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電気化学的水素発生/溶解プロセスの改良型二プレート数学モデルを提示し,検討した。Langmuir吸着式と共に,モデルを種々の走査速度でガラス状炭素/Pd層電極系を用いることによって実験的に確認した。0.1Mおよび0.001MHCl溶液中の水素発生/溶解プロセスの二つのカソーディック-アノーディック段階を分析して検討した。層の厚さと析出法もまた研究した。固体電極中の元素状水素の存在の影響による電極プロセス中の電極特性の変化の基本的速度論問題を提示し,分析する。吸収スペクトルにおける等吸収点の電気化学的同類である,等電位点現象を水素吸着およびα可変性の実験的効果として思いがけずに見出した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *数学モデル ,  *サイクリックボルタンメトリー ,  *水素発生反応 ,  *溶解 ,  *電気化学反応 ,  *反応速度 ,  等電点 ,  吸着 ,  パラジウム ,  電着 ,  *電気化学的挙動

分類 (2件)： 電極過程  (CB07040U) ,  化学プロセスの解析  (XC01030R)

タイトルに関連する用語 (5件)： ストリッピングボルタンメトリー ,  水素発生 ,  溶解 ,  プロセス ,  数学モデル