研磨パッド及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：正林真之 , 林一好
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-514628
公開番号（公開出願番号）：特表2010-531241
出願日： 2008年06月27日
公開日（公表日）： 2010年09月24日
要約：

【課題】シリコンウエハー、ディスプレー用板状ガラスなどのCMP工程に使用する研磨パッド及びその製造方法を提供する。【解決手段】研磨パッドは、極細糸からなる不織布と、前記不織布内に含浸された高分子弾性体で構成され、表面には極細繊維が立毛しており、表面に配列された極細繊維は所定の式の条件を同時に満たすように研磨パッドの長手方向中心軸を基準に配向されている。本発明の研磨パッドは表面により広い配向角度Θ2に極細繊維が配列されて、表面が均一であり、極細繊維の間に孔隙が形成されるので、別途に孔隙を形成する工程を施さなくても研磨性能に優れ、研磨時スクラッチ発生率が低い。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

極細糸からなる不織布と、この不織布内に含浸された高分子弾性体とを含み、表面に極細繊維が立毛し、表面に配列された極細繊維が下記式(I)〜(III)の条件を同時に満たすように研磨パッドの長手方向中心軸を基準に配向されている研磨パッド。 (f1+f2)≧(f1+f2+f3+f4)/2 (I) f2>f3>f4 (II) f2>f1 (III) (式中、f1は研磨パッドの表面に0〜5 ゚未満の配向角度Θ2に配列され、一定の単位面積を有する極細繊維の総数であり、f2は研磨パッドの表面に5〜30 ゚未満の配向角度Θ2に配列され、一定の単位面積を有する極細繊維の総数であり、f3は研磨パッドの表面に30〜45 ゚未満の配向角度Θ2に配列され、一定の単位面積を有する極細繊維の総数であり、f4は研磨パッドの表面に45〜90 ゚の配向角度Θ2に配列され、一定の単位面積を有する極細繊維の総数である。)

IPC (2件)：

B24B 37/00 , H01L 21/304

FI (3件)：

B24B37/00 S , B24B37/00 R , H01L21/304 622F

Fターム (17件)：

3C058AA09 , 3C058CA05 , 3C058CA06 , 3C058CB02 , 3C058CB03 , 3C058CB10 , 5F057AA03 , 5F057AA05 , 5F057AA16 , 5F057AA24 , 5F057BA11 , 5F057BB01 , 5F057CA11 , 5F057DA02 , 5F057EB04 , 5F057EB05 , 5F057EB09

引用特許：

審査官引用 (5件)

研磨用パッド
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-213737 出願人：ロデール・ニッタ株式会社
研磨布
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-382625 出願人：東レ株式会社
研磨用基布および研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-369738 出願人：帝人株式会社

全件表示

前のページに戻る