特許

J-GLOBAL ID：201003001169449883

グラフェン酸化物の脱酸素

発明者： エス・スコット・ギルジェ
出願人/特許権者： ノースロップ グラマン システムズ コーポレーション
代理人 (6件)： 小野 新次郎 ,  社本 一夫 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  松田 豊治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-091959
公開番号（公開出願番号）：特開2010-248066
出願日： 2010年04月13日
公開日（公表日）： 2010年11月04日
要約：

【課題】費用及び危険性を伴なう、ヒドラジン、高温、不活性ガスを必要としないグラフェン酸化物の還元法を提供する。【解決手段】グラフェン酸化物(GO)標的物を、GO標的物の脱酸素反応を開始させるのに足る出力を有する光に暴露し、光熱分解する。GO標的物の脱酸素反応中に酸素を捕捉する触媒が、ニッケル、銅、ケイ素およびマグネシウムの1種または複数である触媒を用いて、GO標的物を、200ナノメートル〜400ナノメートルの波長を有するグラフェン酸化物の薄膜をパターニングするように配置されたリソグラフィー光源からの光に暴露して、GO標的物の脱酸素反応中に酸素を捕捉する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

段階: グラフェン酸化物(GO)標的物を、GO標的物の脱酸素反応を開始させるのに足る出力を有する光に暴露する段階、ここにおいて、GO標的物の脱酸素反応はGO標的物をグラフェンに変換する、 を含む方法。

IPC (1件)：

C01B 31/04

FI (1件)：

C01B31/04

Fターム (16件)：

4G146AA02 ,  4G146AB07 ,  4G146AC02B ,  4G146AD11 ,  4G146AD20 ,  4G146BA02 ,  4G146BA49 ,  4G146BC04 ,  4G146BC20 ,  4G146BC29 ,  4G146BC50 ,  4G146CA09 ,  4G146CB10 ,  4G146CB16 ,  4G146DA04 ,  4G146DA42

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 炭素からなる骨格を持つ薄膜状粒子を基板に載せた構造物およびその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-032881   出願人：三菱瓦斯化学株式会社
• グラフェンシートの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-233021   出願人：国立大学法人北海道大学, 寿産業株式会社, 札幌エレクトロプレイティング工業株式会社