特許

J-GLOBAL ID：201003001187395251

投射型表示装置

発明者： 橋爪 滋郎
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
代理人 (1件)： 吉岡 宏嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-256144
公開番号（公開出願番号）：特開2010-085819
出願日： 2008年10月01日
公開日（公表日）： 2010年04月15日
要約：

【課題】ダイクロイックミラー等を用いずに複数の光源から出射された光を集光させて製品コストを抑制する。【解決手段】投射型表示装置10は、画像信号に応じて変調された光を出射する複数の光源12と、この複数の光源からの光を互いに平行なビーム光線に変換するコリメートレンズ14と、変換された複数のビーム光線をほぼ同一光軸上に集光する集光手段と、集光された光を立ち上げ反射させる反射ミラー18と、反射された光を被投射面上に二次元走査する光走査手段としての角度可変ミラー20により構成される。特に、集光手段は、変換された複数のビーム光線のビーム間隔を絞ってほぼ同一光軸上に集光する集光レンズ16(レンズ16a及びレンズ16bからなるビームエキスパンダ)により構成されてなる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

画像信号に応じて変調された光を出射する複数の光源と、該複数の光源からの光を互いに平行なビーム光線に変換するコリメートレンズと、変換された複数のビーム光線をほぼ同一光軸上に集光する集光手段と、ほぼ同一光軸上に集光された光を角度可変ミラーにより反射して被投射面上に二次元走査する光走査手段とを備え、 前記集光手段は、前記変換された複数のビーム光線のビーム間隔を絞ってほぼ同一光軸上に集光する集光レンズ系により構成されてなる投射型表示装置。

IPC (5件)：

G02B 26/10 ,  G03B 21/00 ,  G02B 27/18 ,  G02B 3/00 ,  H04N 5/74

FI (6件)：

G02B26/10 C ,  G03B21/00 Z ,  G02B27/18 Z ,  G02B26/10 B ,  G02B3/00 A ,  H04N5/74 A

Fターム (27件)：

2H045AB13 ,  2H045BA24 ,  2H045BA32 ,  2K103AA01 ,  2K103AA16 ,  2K103AB10 ,  2K103BA02 ,  2K103BA11 ,  2K103BA15 ,  2K103BB05 ,  2K103BC01 ,  2K103BC03 ,  2K103BC22 ,  2K103BC26 ,  2K103BC42 ,  2K103BC47 ,  2K103BC50 ,  2K103CA10 ,  2K103CA20 ,  2K103CA24 ,  2K103CA26 ,  2K103CA29 ,  2K103CA40 ,  2K103CA75 ,  5C058EA05 ,  5C058EA12 ,  5C058EA13

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 投射型表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-209576   出願人：キヤノン株式会社