特許
J-GLOBAL ID:201003001450653880

細胞パターン回収ツール

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 吉武 賢次 ,  中村 行孝 ,  紺野 昭男 ,  横田 修孝 ,  伊藤 武泰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-271850
公開番号(公開出願番号):特開2010-098979
出願日: 2008年10月22日
公開日(公表日): 2010年05月06日
要約:
【課題】細胞パターンを安定的かつ確実に維持したまま、細胞にとって低侵襲な条件で、細胞パターンを迅速に回収できる、細胞パターン回収ツールの提供。【解決手段】本発明による細胞パターン回収ツールは、表面が易接着処理された基材層と、前記基材層上に形成された、表面がシラン処理された温度応答性ポリマー層と、前記温度応答性ポリマー層上に形成された、細胞接着阻害材料層とから構成されてなる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
表面が易接着処理された基材層と、 前記基材層上に形成された、表面がシラン処理された温度応答性ポリマー層と、 前記温度応答性ポリマー層上に形成された、細胞接着阻害材料層と から構成されてなる、細胞パターン回収ツール。
IPC (3件):
C12M 3/00 ,  C12N 11/02 ,  C12N 5/07
FI (3件):
C12M3/00 A ,  C12N11/02 ,  C12N5/00 E
Fターム (20件):
4B029AA08 ,  4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029CC11 ,  4B029GA01 ,  4B029GB09 ,  4B029GB10 ,  4B033NA02 ,  4B033NA16 ,  4B033NB33 ,  4B033NB63 ,  4B033NC07 ,  4B033ND12 ,  4B065AA90X ,  4B065AC20 ,  4B065BC42 ,  4B065BD14 ,  4B065BD50 ,  4B065CA44
引用特許:
審査官引用 (3件)
引用文献:
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