特許
J-GLOBAL ID:201003001450653880
細胞パターン回収ツール
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (5件):
吉武 賢次
, 中村 行孝
, 紺野 昭男
, 横田 修孝
, 伊藤 武泰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-271850
公開番号(公開出願番号):特開2010-098979
出願日: 2008年10月22日
公開日(公表日): 2010年05月06日
要約:
【課題】細胞パターンを安定的かつ確実に維持したまま、細胞にとって低侵襲な条件で、細胞パターンを迅速に回収できる、細胞パターン回収ツールの提供。【解決手段】本発明による細胞パターン回収ツールは、表面が易接着処理された基材層と、前記基材層上に形成された、表面がシラン処理された温度応答性ポリマー層と、前記温度応答性ポリマー層上に形成された、細胞接着阻害材料層とから構成されてなる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
表面が易接着処理された基材層と、
前記基材層上に形成された、表面がシラン処理された温度応答性ポリマー層と、
前記温度応答性ポリマー層上に形成された、細胞接着阻害材料層と
から構成されてなる、細胞パターン回収ツール。
IPC (3件):
C12M 3/00
, C12N 11/02
, C12N 5/07
FI (3件):
C12M3/00 A
, C12N11/02
, C12N5/00 E
Fターム (20件):
4B029AA08
, 4B029AA21
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B029CC11
, 4B029GA01
, 4B029GB09
, 4B029GB10
, 4B033NA02
, 4B033NA16
, 4B033NB33
, 4B033NB63
, 4B033NC07
, 4B033ND12
, 4B065AA90X
, 4B065AC20
, 4B065BC42
, 4B065BD14
, 4B065BD50
, 4B065CA44
引用特許:
引用文献:
前のページに戻る