特許
J-GLOBAL ID:201003001660651570
成膜装置及び成膜システム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
ポレール特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-100322
公開番号(公開出願番号):特開2010-248583
出願日: 2009年04月16日
公開日(公表日): 2010年11月04日
要約:
【課題】本発明は真空チャンバ内部の圧力状態に依存せず、特に1辺の長さが1mを超える大形基板に対して精密なパターニングに向けた高精度基板アライメントが可能な成膜装置または成膜システムを提供することである。【解決手段】本発明は、基板とマスクとのアライメントを行い成膜材料を基板に真空成膜する真空チャンバを有する成膜装置またはシステムにおいて、前記真空チャンバの内部に設けた剛体の第1基準部材、真空チャンバの外部に設けた剛体の第2基準部材及び一端を前記第1基準部材の固定し、前記真空チャンバの壁に設けた貫通孔を通して他端を前記第2基準部材に固定された剛体の支柱を複数具備するかご構造体と、前記かご構造体を前記真空アライメントチャンバの所定位置に維持するフローティング機構と、前記支柱を覆い前記真空チャンバの気密性を確保し、アライメントマークを撮像する撮像手段を前記剛体のいずれかに取付けたことを特徴とする。【選択図】図2
請求項(抜粋):
基板とマスクとのアライメントを行なう真空アライメントチャンバと蒸発源内の成膜材料を基板に成膜する真空成膜チャンバを有する成膜装置において、
前記真空アライメントチャンバの内部に設けた剛体の第1基準部材、真空アライメントチャンバの外部に設けた剛体の第2基準部材、及び一端を前記第1基準部材に固定し、前記真空アライメントチャンバの壁に設けた貫通孔を通して他端を前記第2基準部材に固定された剛体の支柱を複数具備するかご構造体と、前記貫通孔と前記第2基準部材の前記固定部との間の支柱を覆い、前記真空アライメントチャンバの気密性を確保する第1気密部と、前記かご構造体を前記真空アライメントチャンバの所定位置に維持する複数のフローティング機構と、前記基板とマスクに設けた複数のアライメントマークを撮像する複数の撮像手段とを有し、前記撮像手段の取付位置は前記剛体のいずれかに直接的あるいは間接的に取付ける位置であることを特徴とする成膜装置。
IPC (3件):
C23C 14/24
, H05B 33/10
, H01L 51/50
FI (3件):
C23C14/24 G
, H05B33/10
, H05B33/14 A
Fターム (19件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC35
, 3K107CC42
, 3K107CC45
, 3K107GG03
, 3K107GG05
, 3K107GG32
, 3K107GG33
, 3K107GG54
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029BB03
, 4K029CA01
, 4K029DB06
, 4K029DB14
, 4K029DB18
, 4K029HA01
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