特許

J-GLOBAL ID：201003002012631064

欠陥検査装置及び欠陥検査方法

発明者： 上山 真司
出願人/特許権者： 株式会社東京精密
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  鶴田 準一 ,  伊坪 公一 ,  榎原 正巳 ,  小林 龍
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-008161
公開番号（公開出願番号）：特開2010-164487
出願日： 2009年01月16日
公開日（公表日）： 2010年07月29日
要約：

【課題】欠陥検査において、疑似欠陥の発生を抑制しつつ、微小欠陥の検出感度を向上する。【解決手段】欠陥検査装置1は、検査画像と参照画像との間で、対応する画素同士のグレイレベル差を決定するグレイレベル差決定手段15と、検査対象画素とその隣接画素におけるそれぞれのグレイレベル差を特徴量とする識別関数の値に応じたクラス分けを行うパターン認識によって、検査対象画素が欠陥候補か否かを判定する欠陥判定手段16と、を備える。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

試料表面に現れる反復パターン内の互いに同一であるべきパターンをそれぞれ撮像することにより得られた検査画像と参照画像とを比較して、相違部分を欠陥として検出する欠陥検査装置において、 前記検査画像と前記参照画像との間で、対応する画素同士のグレイレベル差を決定するグレイレベル差決定手段と、 検査対象画素とその隣接画素におけるそれぞれの前記グレイレベル差を特徴量とする識別関数の値に応じたクラス分けを行うパターン認識によって、前記検査対象画素が欠陥候補か否かを判定する欠陥判定手段と、 を備える欠陥検査装置。

IPC (2件)：

G01N 21/956 ,  H01L 21/66

FI (2件)：

G01N21/956 Z ,  H01L21/66 J

Fターム (18件)：

2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AB07 ,  2G051AC21 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051ED11 ,  4M106AA01 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20