特許

J-GLOBAL ID：201003002700750999

触媒及びその製造方法、並びにそれを用いたパラキシレンの製造方法

発明者： 香坂 衣里
出願人/特許権者： 株式会社ジャパンエナジー
代理人 (3件)： 杉村 憲司 ,  冨田 和幸 ,  寺嶋 勇太
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-068909
公開番号（公開出願番号）：特開2010-221095
出願日： 2009年03月19日
公開日（公表日）： 2010年10月07日
要約：

【課題】分子篩作用(又は形状選択性)を有し触媒活性に優れた新規触媒と、異性化工程及び/又は吸着分離工程を行わなくても、高純度のパラキシレンを効率よく製造することが可能な方法を提供する。【解決手段】結晶子径が20〜300nmであるMFI型ゼオライトの外表面をシリケートで修飾してなる触媒であって、前記シリケートの厚みが0.5〜20nmであることを特徴とする触媒、並びに、該触媒とベンゼン及び/又はトルエンを接触させて、アルキル化又は不均化反応を行うことを特徴とするパラキシレンの製造方法である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

結晶子径が20〜300nmであるMFI型ゼオライトの外表面をシリケートで修飾してなる触媒であって、前記シリケートの厚みが0.5〜20nmであることを特徴とする触媒。

IPC (4件)：

B01J 29/40 ,  C07C 5/13 ,  C07C 2/86 ,  C07C 15/08

FI (4件)：

B01J29/40 Z ,  C07C5/13 ,  C07C2/86 ,  C07C15/08

Fターム (36件)：

4G169AA02 ,  4G169AA08 ,  4G169AA12 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA02C ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BE06C ,  4G169BE17C ,  4G169BE32C ,  4G169CB41 ,  4G169CB62 ,  4G169EB15X ,  4G169EB15Y ,  4G169EC27 ,  4G169EE01 ,  4G169FA01 ,  4G169FB30 ,  4G169ZA10A ,  4G169ZA11B ,  4G169ZB08 ,  4G169ZC10 ,  4G169ZD03 ,  4G169ZF02B ,  4H006AA02 ,  4H006AC23 ,  4H006AC27 ,  4H006BA33 ,  4H006BA71 ,  4H006BA81 ,  4H006DA15 ,  4H006DA50 ,  4H039CA11 ,  4H039CJ30 ,  4H039CL25

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Selective formation of para-xylene over H-ZSM-5 coated with polycrystalline silicalite crystals