特許
J-GLOBAL ID:201003002755302987
半田付け用真空加熱装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
青木 篤
, 鶴田 準一
, 島田 哲郎
, 大橋 康史
, 篠崎 正海
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-302886
公開番号(公開出願番号):特開2010-125486
出願日: 2008年11月27日
公開日(公表日): 2010年06月10日
要約:
【課題】真空室内に配置された被加熱物を効率良く加熱する半田付け用真空加熱装置を提供する。【解決手段】被接合部材(3)が半田(2)を介在して設置された被加熱物(1)を加熱するために、真空室内に配置された半田付け用真空加熱装置であって、前記被加熱物(1)にヒータ加熱面がそれぞれ接触する複数のヒータ(32)と、前記複数のヒータ(32)をそれぞれ収容する複数のヒータ受け(33)と、前記被加熱物(1)に対して前記複数のヒータ受け(33)をそれぞれ独立して弾性体(50)で押圧して、前記ヒータ加熱面を密着させるフローティング機構と、前記フローティング機構が設けられた支持台(34、35、36)と、前記ヒータ受け(33)から前記被加熱物(1)が受ける押圧力を受圧する受圧部(31)を具備することを特徴とする。【選択図】図4
請求項(抜粋):
被接合部材(3)が半田(2)を介在して設置された被加熱物(1)を加熱するために、真空室内に配置された半田付け用真空加熱装置であって、
前記被加熱物(1)にヒータ加熱面がそれぞれ接触する複数のヒータ(32)と、前記複数のヒータ(32)をそれぞれ収容する複数のヒータ受け(33)と、前記被加熱物(1)に対して前記複数のヒータ受け(33)をそれぞれ独立して弾性体(50)で押圧して、前記ヒータ加熱面を密着させるフローティング機構と、前記フローティング機構が設けられた支持台(34、35、36)と、前記ヒータ受け(33)から前記被加熱物(1)が受ける押圧力を受圧する受圧部(31)とを具備する半田付け用真空加熱装置。
IPC (3件):
B23K 3/04
, H05K 3/34
, B23K 31/02
FI (4件):
B23K3/04 B
, H05K3/34 507M
, B23K3/04 Y
, B23K31/02 310C
Fターム (4件):
5E319AB05
, 5E319CC47
, 5E319CC60
, 5E319GG15
引用特許: