特許

J-GLOBAL ID：201003004070342237

光学補償フィルムの製造方法

発明者： 中嶋 孝治
出願人/特許権者： コニカミノルタオプト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-059341
公開番号（公開出願番号）：特開2010-211110
出願日： 2009年03月12日
公開日（公表日）： 2010年09月24日
要約：

【課題】棒状の重合性液晶化合物を有する位相差層を有し、コントラストが良く、カラーシフトの少ない光学補償フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】樹脂フィルム上に棒状の重合性液晶化合物を有機溶媒に溶解させた塗布液を塗布し、塗布膜を形成する塗布工程と、塗布膜の膜面の温度を10〜40°Cとして、乾燥工程後の前記塗布膜の残留溶剤比率が3〜15質量%となるようにする乾燥工程と、乾燥工程の後に、塗布膜の膜面の温度を前記重合性液晶化合物の相転位温度以上で5〜15秒間加熱する熱処理工程と、熱処理工程後に、塗布膜の膜面の温度が相転位温度未満で活性放射線を照射前記活性放射線照射工程を備える。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

樹脂フィルム上に棒状の重合性液晶化合物を有機溶媒に溶解させた塗布液を塗布し、塗布膜を形成する塗布工程と、前記塗布膜が形成された樹脂フィルムを乾燥する乾燥工程と、前記乾燥工程後の前記樹脂フィルムに対し、活性放射線を照射する活性放射線照射工程とを有する光学補償フィルムの製造方法において、 前記乾燥工程は、前記塗布膜の膜面の温度を10〜40°Cとして、前記乾燥工程後の前記塗布膜の残留溶剤比率が3〜15質量%となるようにする工程であって、 前記乾燥工程の後に、前記塗布膜の膜面の温度を前記重合性液晶化合物の相転位温度以上で5〜15秒間加熱する熱処理工程を有し、 前記活性放射線照射工程は、 前記熱処理工程後に、前記塗布膜の膜面の温度が前記相転位温度未満で活性放射線を照射することを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。

IPC (2件)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/133

FI (2件)：

G02B5/30 ,  G02F1/13363

Fターム (39件)：

2H149AA07 ,  2H149AB02 ,  2H149AB05 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB06 ,  2H149DB15 ,  2H149FA02X ,  2H149FA02Z ,  2H149FA03W ,  2H149FA24Y ,  2H149FA26Y ,  2H149FA41Y ,  2H149FA58Y ,  2H149FA63 ,  2H149FD26 ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Z ,  2H191FB04 ,  2H191FB05 ,  2H191FB22 ,  2H191FB23 ,  2H191FC15 ,  2H191FC32 ,  2H191FC33 ,  2H191FD10 ,  2H191FD12 ,  2H191FD35 ,  2H191GA22 ,  2H191HA11 ,  2H191HA15 ,  2H191LA13 ,  2H191LA22 ,  2H191LA25 ,  2H191LA27 ,  2H191PA26 ,  2H191PA62 ,  2H191PA79 ,  2H191PA84