特許
J-GLOBAL ID：201003004513139049
X線反射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (5件)：
熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 西島 孝喜
, 須田 洋之
, 上杉 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-186840
公開番号（公開出願番号）：特開2010-025723
出願日： 2008年07月18日
公開日（公表日）： 2010年02月04日
要約：
【課題】反射面の平滑度が多角、結像(反射)性能が高く、かつ、安定であり、全体の受領を軽量化したX線反射鏡等を提供する。【解決手段】シリコン基板を熱塑性変形させることによって、反射面の曲面形状が安定したX線反射鏡を提供する。シリコンウェハは、1300度程度の高温、水素雰囲気中で圧力をかけることで、自由な形状に変形させることができる。また、基板を水素アニールすることによって、シリコン表面の粗さがさらに低減し、反射率が向上する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
塑性変形されたシリコン基板本体と、
X線の反射に供しうる平滑度を有する反射面であって、前記塑性変形により所定の曲面形状とされた反射面を有することを特徴とするX線反射鏡。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G21K1/06 B
, G21K1/06 C
, G21K1/06 D
, G02B5/10 A
2H042DA01
, 2H042DA12
, 2H042DC11
, 2H042DC12
, 2H042DD06
, 2H042DD09
, 2H042DE00
