ヘリウムガス発生装置およびヘリウムガス発生方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：山本秀策 , 安村高明 , 森下夏樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-176348
公開番号（公開出願番号）：特開2010-014629
出願日： 2008年07月04日
公開日（公表日）： 2010年01月21日
要約：

【課題】大量のヘリウムガスを容易に発生させることが可能な実用的なヘリウムガス発生装置を提供すること。【解決手段】ヘリウムガス発生装置1は、ヘリウム成分を含む重水素ガスを重水素透過性を有する壁を透過させることにより、高純度の重水素ガスを発生させる第1の装置10と、重水素超吸収性を有するPd含有合金の粉末に前記高純度の重水素ガスを供給することにより、前記粉末の内部でヘリウムを発生させる第2の装置20と、前記粉末を加熱することにより、前記粉末の中のヘリウムを前記第2の装置の外部に排出する加熱装置40と、前記第2の装置から排出されたヘリウムから高純度のヘリウムガスを発生させる第3の装置30とを備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ヘリウム成分を含む重水素ガスを重水素透過性を有する壁を透過させることにより、高純度の重水素ガスを発生させる第1の装置と、重水素超吸収性を有するPd含有合金の粉末に前記高純度の重水素ガスを供給することにより、前記粉末の内部でヘリウムを発生させる第2の装置と、前記粉末を加熱することにより、前記粉末の中のヘリウムを前記第2の装置の外部に排出する加熱装置と、前記第2の装置から排出されたヘリウムから高純度のヘリウムガスを発生させる第3の装置とを備えたヘリウムガス発生装置。

IPC (4件)：

G21B 3/00 , G21B 1/00 , C01B 23/00 , C01B 4/00

FI (4件)：

G21B1/00 Y , G21B1/00 Z , C01B23/00 A , C01B4/00 Z

引用特許：

出願人引用 (2件)

米国特許第5,647,970号
国際公開第95/35574号

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