特許
J-GLOBAL ID：201003005552816852

微細構造体の製造方法

発明者：
多田 靖彦

多田 靖彦 について

, 
吉田 博史

吉田 博史 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (2件)： 井上 学 ,  戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-218959
公開番号（公開出願番号）：特開2010-056257
出願日： 2008年08月28日
公開日（公表日）： 2010年03月11日
要約：
【課題】 基板上に離散的に配置した化学パターンに対して自己組織化により化学的パターンを補間し、長距離秩序性に優れ、低欠陥の相分離構造を発現させる方法を提供する。【解決手段】 少なくとも第1セグメントおよび第2セグメントを有する高分子ブロック共重合体を含む高分子層を基板表面に配置する第1段階と、高分子層をミクロ相分離させ、第1セグメントを成分にする連続相とこの連続相の貫通方向に配列し第2セグメントを成分にするミクロドメインとから形成される構造を発現させる第2段階とを有し、基板は、ミクロドメインが形成される位置に離散的に配置された基板表面とは化学的性質の異なるパターン部材を有し、第1段階で配置する高分子層の厚みtと、高分子ブロック共重合体が形成するミクロドメインの固有周期dの関係が、(m+0.3)×d<t<(m+0.7)×dであり、mが0以上の整数であることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも第1セグメントおよび第2セグメントを有する高分子ブロック共重合体を含む高分子層を基板表面に配置する第1段階と、 前記高分子層をミクロ相分離させ、前記第1セグメントを成分にする連続相とこの連続相の貫通方向に配列し前記第2セグメントを成分にするミクロドメインとから形成される構造を発現させる第2段階と、 を有する微細構造体の製造方法において、 前記基板は、前記ミクロドメインが形成される位置に離散的に配置された該基板表面とは化学的性質の異なるパターン部材を有し、 前記第1段階で配置する前記高分子層の厚みtと、前記高分子ブロック共重合体が形成するミクロドメインの固有周期dの関係が、 (m+0.3)×d<t<(m+0.7)×d であり、mが0以上の整数であることを特徴とする微細構造体の製造方法。
IPC (1件)：
H01L 21/306
FI (1件)：
H01L21/302 105A
Fターム (11件)：
4J026HA06 ,  4J026HB11 ,  4J026HD06 ,  4J026HD11 ,  4J026HE01 ,  5F004AA09 ,  5F004DA01 ,  5F004DA26 ,  5F004DB01 ,  5F004DB23 ,  5F004EA40
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • USP6,746,825,B2
  • USP6,926,953,B2
審査官引用 (6件)
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