特許
J-GLOBAL ID：201003005607039435

導電性ナノファイバーシート及びその製造方法

発明者：
稲子 吉秀

稲子 吉秀 について

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徳野 勝己

徳野 勝己 について

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吉田 敬典

吉田 敬典 について

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仁井 善浩

仁井 善浩 について


出願人/特許権者：
日本写真印刷株式会社

日本写真印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-318499
公開番号（公開出願番号）：特開2010-140859
出願日： 2008年12月15日
公開日（公表日）： 2010年06月24日
要約：
【課題】パターン見えを軽減させると共に、導電パターン膜を容易に形成することができる導電性ナノファイバーシート及びその製造方法を提供する。【解決手段】導電性ナノファイバーシート1は、基体シート10と、導電性ナノファイバー3を含み、前記基体シート10上に形成された導電パターン層6と、導電性ナノファイバー3を含み、基体シート10上の導電パターン層6が形成されていない部分に形成された絶縁パターン層5とを備えている。導電パターン層6及び絶縁パターン層5は一定方向を軸方向として交互に形成されている。導電パターン層6は、導電性ナノファイバー3を介して導通可能であり、絶縁パターン層5は、導電性ナノファイバー3が断線することにより導電パターン層6から絶縁している。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基体シートと、 導電性ナノファイバーを含み、前記基体シート上に形成された導電パターン層と、 前記導電性ナノファイバーを含み、前記基体シート上の前記導電パターン層が形成されていない部分に形成された絶縁パターン層とを備え、 前記導電パターン層は、前記導電性ナノファイバーを介して導通可能であり、 前記絶縁パターン層は、前記導電性ナノファイバーが断線することにより前記導電パターン層から絶縁している、導電性ナノファイバーシート。
IPC (7件)：
H01H 11/04 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00 ,  B32B 5/02 ,  G06F 3/041 ,  H01H 1/06 ,  H01H 36/00
FI (7件)：
H01H11/04 B ,  H01B5/14 A ,  H01B13/00 503B ,  B32B5/02 C ,  G06F3/041 330A ,  H01H1/06 K ,  H01H36/00 J
Fターム (41件)：
4F100AB24 ,  4F100AK15 ,  4F100AK25 ,  4F100AK42 ,  4F100AT00C ,  4F100BA03 ,  4F100DC30A ,  4F100DC30B ,  4F100DD40A ,  4F100DD40B ,  4F100DG01A ,  4F100DG01B ,  4F100EJ15A ,  4F100EJ30B ,  4F100EJ38 ,  4F100EJ47B ,  4F100EJ52B ,  4F100GB41 ,  4F100HB31 ,  4F100JG01A ,  4F100JG01B ,  4F100JG04A ,  5B087AB04 ,  5B087CC13 ,  5B087CC14 ,  5B087CC37 ,  5G023CA30 ,  5G046AA11 ,  5G046AB02 ,  5G046AC24 ,  5G046AE02 ,  5G051AB10 ,  5G051AC01 ,  5G051AC40 ,  5G307FA02 ,  5G307FB04 ,  5G307FC09 ,  5G307FC10 ,  5G323BA01 ,  5G323BA05 ,  5G323BB06
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)

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