導電性ナノファイバーシート及びその製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-318499
公開番号（公開出願番号）：特開2010-140859
出願日： 2008年12月15日
公開日（公表日）： 2010年06月24日
要約：

【課題】パターン見えを軽減させると共に、導電パターン膜を容易に形成することができる導電性ナノファイバーシート及びその製造方法を提供する。【解決手段】導電性ナノファイバーシート1は、基体シート10と、導電性ナノファイバー3を含み、前記基体シート10上に形成された導電パターン層6と、導電性ナノファイバー3を含み、基体シート10上の導電パターン層6が形成されていない部分に形成された絶縁パターン層5とを備えている。導電パターン層6及び絶縁パターン層5は一定方向を軸方向として交互に形成されている。導電パターン層6は、導電性ナノファイバー3を介して導通可能であり、絶縁パターン層5は、導電性ナノファイバー3が断線することにより導電パターン層6から絶縁している。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基体シートと、導電性ナノファイバーを含み、前記基体シート上に形成された導電パターン層と、前記導電性ナノファイバーを含み、前記基体シート上の前記導電パターン層が形成されていない部分に形成された絶縁パターン層とを備え、前記導電パターン層は、前記導電性ナノファイバーを介して導通可能であり、前記絶縁パターン層は、前記導電性ナノファイバーが断線することにより前記導電パターン層から絶縁している、導電性ナノファイバーシート。

IPC (7件)：

H01H 11/04 , H01B 5/14 , H01B 13/00 , B32B 5/02 , G06F 3/041 , H01H 1/06 , H01H 36/00

FI (7件)：

H01H11/04 B , H01B5/14 A , H01B13/00 503B , B32B5/02 C , G06F3/041 330A , H01H1/06 K , H01H36/00 J

Fターム (41件)：

4F100AB24 , 4F100AK15 , 4F100AK25 , 4F100AK42 , 4F100AT00C , 4F100BA03 , 4F100DC30A , 4F100DC30B , 4F100DD40A , 4F100DD40B , 4F100DG01A , 4F100DG01B , 4F100EJ15A , 4F100EJ30B , 4F100EJ38 , 4F100EJ47B , 4F100EJ52B , 4F100GB41 , 4F100HB31 , 4F100JG01A , 4F100JG01B , 4F100JG04A , 5B087AB04 , 5B087CC13 , 5B087CC14 , 5B087CC37 , 5G023CA30 , 5G046AA11 , 5G046AB02 , 5G046AC24 , 5G046AE02 , 5G051AB10 , 5G051AC01 , 5G051AC40 , 5G307FA02 , 5G307FB04 , 5G307FC09 , 5G307FC10 , 5G323BA01 , 5G323BA05 , 5G323BB06

引用特許：

出願人引用 (1件)

特許第3903159号

審査官引用 (1件)

導電シート及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-138589 出願人：パナソニック株式会社

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