特許

J-GLOBAL ID：201003005973840876

波長掃引光源

発明者： 向井 厚史 ,  園田 慎一郎
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-164170
公開番号（公開出願番号）：特開2010-010172
出願日： 2008年06月24日
公開日（公表日）： 2010年01月14日
要約：

【課題】狭いスペクトル線幅の光を掃引可能で、かつ安価に形成可能な波長掃引光源を得る。【解決手段】半導体光増幅器10と、この半導体光増幅器10の一端面から発せられた光を他端面から該素子に帰還させるリング状光帰還系11と、このリング状光帰還系11内を進行する光を波長選択して透過させ、かつ、その選択波長を連続的に変化させるファイバファブリペロエタロン14と、前記リング状光帰還系11内を進行する光の一部を外部に取り出す手段15とを備えてなる波長掃引光源において、ファイバファブリペロエタロン14を、リング状光帰還系11の全長の中央位置以外に配設する。その上で、少なくともファイバファブリペロエタロン14で反射した光が半導体光増幅器10に戻る期間は、この半導体光増幅器10への印加電流を発振閾値未満に設定し、それ以外の期間では印加電流を発振閾値以上に設定する電流変調手段17、18を設ける。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

半導体光増幅器と、 この半導体光増幅器の一端面から発せられた光を他端面から該素子に帰還させてレーザ発振させるリング状光帰還系と、 このリング状光帰還系内を進行する光を波長選択して透過させ、かつ、その選択波長を連続的に変化させるファイバファブリペロエタロンと、 前記リング状光帰還系内を進行する光の一部を外部に取り出す手段とを備えてなる波長掃引光源において、 前記ファイバファブリペロエタロンが、前記リング状光帰還系の全長の中央位置以外に配設されるとともに、 少なくとも前記ファイバファブリペロエタロンで反射した光が前記半導体光増幅器に戻る期間は、半導体光増幅器への印加電流を発振閾値未満に設定し、それ以外の期間では前記印加電流を発振閾値以上に設定する電流変調手段が設けられたことを特徴とする波長掃引光源。

IPC (6件)：

H01S 3/10 ,  H01S 3/083 ,  H01S 3/00 ,  H01S 5/06 ,  H01S 5/50 ,  G01N 21/17

FI (6件)：

H01S3/10 Z ,  H01S3/083 ,  H01S3/00 F ,  H01S5/06 ,  H01S5/50 610 ,  G01N21/17 620

Fターム (33件)：

2G059AA05 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF01 ,  2G059GG01 ,  2G059GG09 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ20 ,  2G059JJ22 ,  5F172AE26 ,  5F172CC04 ,  5F172NN09 ,  5F172NN25 ,  5F172NQ02 ,  5F172NQ43 ,  5F172NQ50 ,  5F172NQ70 ,  5F172NR28 ,  5F172NR30 ,  5F172ZZ03 ,  5F172ZZ04 ,  5F173MA10 ,  5F173MF02 ,  5F173MF17 ,  5F173MF23 ,  5F173MF27 ,  5F173SA26 ,  5F173SC10 ,  5F173SE02 ,  5F173SG21

引用特許：

出願人引用 (1件)

• リングレーザ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-139622   出願人：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー