特許

J-GLOBAL ID：201003006710404202

浸透気化分離膜およびその製造方法

発明者： 神 哲郎 ,  福島 幹恵 ,  二宮 康平 ,  平岡 俊治
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  日本化学機械製造株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-327303
公開番号（公開出願番号）：特開2010-149002
出願日： 2008年12月24日
公開日（公表日）： 2010年07月08日
要約：

【課題】分離機能(分離係数、透過流束)が優れ、工業的に実用性の高い浸透気化分離膜およびその製造方法を提供する。【解決手段】平均細孔径が0.1〜1.0μmである多孔質基材を平均粒径40〜120nmのコロイダルシリカの有機溶剤分散液にディップコートした後に加熱処理して中間層を形成し、次いで、これを平均粒径10〜30nmのコロイダルシリカの有機溶剤分散液にディップコートした後に加熱処理して分離層を形成し、得られた多孔質無機基材の表面のOH基に、疎水性シランカップリング剤を反応させる浸透気化分離膜の製造方法;および、該方法で得られる浸透気化分離膜。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

平均細孔径が0.1〜1.0μmである多孔質基材を平均粒径40〜120nmのコロイダルシリカの有機溶剤分散液にディップコートした後に加熱処理して中間層を形成し、次いで、これを平均粒径10〜30nmのコロイダルシリカの有機溶剤分散液にディップコートした後に加熱処理して分離層を形成し、得られた多孔質無機基材の表面のOH基に、疎水性シランカップリング剤を反応させる浸透気化分離膜の製造方法。

IPC (2件)：

B01D 71/02 ,  B01D 61/36

FI (2件)：

B01D71/02 ,  B01D61/36

Fターム (17件)：

4D006GA25 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA09 ,  4D006MA22 ,  4D006MB03 ,  4D006MB10 ,  4D006MC02 ,  4D006MC03X ,  4D006MC04 ,  4D006MC05 ,  4D006MC90 ,  4D006NA46 ,  4D006NA54 ,  4D006NA61 ,  4D006NA63 ,  4D006NA64

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 高選択性分離機能を有する浸透気化分離膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-246488   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所