特許
J-GLOBAL ID：201003006900535109
疎水性ポリマー材料の光表面改質法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小林 浩
, 片山 英二
, 大森 規雄
, 岩田 耕一
, 鈴木 康仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-228265
公開番号（公開出願番号）：特開2010-059346
出願日： 2008年09月05日
公開日（公表日）： 2010年03月18日
要約：
【課題】効率的且つ簡便であり、耐久性に優れた、疎水性ポリマー材料表面の親水化処理剤(表面処理剤)及び親水化処理方法(表面処理方法)を提供する。【解決手段】本発明の表面処理剤は、ホスホリルコリン基を含む側鎖とアジド基を含む側鎖とを有するポリマーを主要成分としてなるもの、又は、当該ポリマーとアルキル基を含む側鎖を有するポリマーとを含むポリマー組成物を主要成分としてなるものである。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(2):
IPC (11件)：
C08F 220/36
, C08F 212/14
, C08F 216/14
, C08F 216/36
, C08F 228/04
, C08L 29/10
, C08L 29/12
, C08L 25/18
, C08L 33/14
, C08L 41/00
, C08J 7/04
C08F220/36
, C08F212/14
, C08F216/14
, C08F216/36
, C08F228/04
, C08L29/10
, C08L29/12
, C08L25/18
, C08L33/14
, C08L41/00
, C08J7/04 T
, C08J7/04
4F006AA12
, 4F006AA15
, 4F006AA35
, 4F006AA36
, 4F006AA42
, 4F006AB16
, 4F006AB20
, 4F006AB24
, 4F006BA10
, 4F006CA09
, 4F006EA03
, 4J002BC10W
, 4J002BC10X
, 4J002BE04W
, 4J002BE04X
, 4J002BE05W
, 4J002BE05X
, 4J002BG07W
, 4J002BG07X
, 4J002BQ00W
, 4J002BQ00X
, 4J002GB01
, 4J002GE00
, 4J002GP01
, 4J100AB07P
, 4J100AB07Q
, 4J100AE09P
, 4J100AE09Q
, 4J100AF10P
, 4J100AF10Q
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AP01P
, 4J100AP01Q
, 4J100BA08Q
, 4J100BA15Q
, 4J100BA32P
, 4J100BA44Q
, 4J100BA51P
, 4J100BA51Q
, 4J100BA65P
, 4J100BC43Q
, 4J100CA04
, 4J100JA34
, 4J100JA51
, 4J100JA52
