特許
J-GLOBAL ID:201003007752762407
微粒子の製造方法およびその製造装置
発明者:
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出願人/特許権者:
,
代理人 (2件):
渡辺 望稔
, 三和 晴子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-028869
公開番号(公開出願番号):特開2010-131577
出願日: 2009年02月10日
公開日(公表日): 2010年06月17日
要約:
【課題】従来は困難であった微細でかつ粒度分布幅の狭いナノ粒子を高効率に生成可能とする微粒子の製造方法、並びにこの方法の実施に用い得る微粒子の製造装置を提供する。【解決手段】微粒子製造用原料としての一種以上の粒子を分散させて熱プラズマ炎中に供給し、前記微粒子製造用原料粒子を蒸発させ気相状態の混合物とし、この混合物を冷却して、微粒子を製造する方法において、前記熱プラズマ炎の発生装置として変調誘導熱プラズマ装置を用い、この変調誘導熱プラズマ装置のコイル電流の振幅変調を所定時間間隔で繰り返させる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
微粒子製造用原料としての一種以上の粒子を分散させて熱プラズマ炎中に供給し、
前記微粒子製造用原料粒子を蒸発させ気相状態の混合物とし、この混合物を冷却して、微粒子を製造する微粒子の製造方法であって、
前記熱プラズマ炎の発生装置として変調誘導熱プラズマ装置を用い、
この変調誘導熱プラズマ装置のコイル電流の振幅変調を所定時間間隔で繰り返させることを特徴とする微粒子の製造方法。
IPC (5件):
B01J 19/08
, C01B 13/20
, C01G 23/07
, H05H 1/30
, H05H 1/42
FI (5件):
B01J19/08 K
, C01B13/20
, C01G23/07
, H05H1/30
, H05H1/42
Fターム (26件):
4G042DA01
, 4G042DB08
, 4G042DB16
, 4G042DB21
, 4G042DB36
, 4G042DC03
, 4G042DD04
, 4G042DE02
, 4G042DE12
, 4G042DE14
, 4G042DE16
, 4G047CA02
, 4G047CB04
, 4G047CC03
, 4G047CD04
, 4G047CD07
, 4G075AA27
, 4G075BA01
, 4G075BB02
, 4G075CA02
, 4G075CA03
, 4G075DA02
, 4G075EA06
, 4G075EB43
, 4G075EC01
, 4G075FB06
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭48-025697
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特開昭48-025697
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