特許
J-GLOBAL ID:201003008340496385

アライメント装置、アライメント方法および半導体装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中島 了
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-115969
公開番号(公開出願番号):特開2010-267682
出願日: 2009年05月12日
公開日(公表日): 2010年11月25日
要約:
【課題】位置合わせ精度をさらに向上させることが可能なアライメント技術を提供する。【解決手段】アライメント装置は、両対象物に配置された第1のパターンと第2のパターンとの重なり画像である重畳画像に基づいて、両対象物相互間の位置ずれを算出するとともに、両対象物を相対的に駆動して当該位置ずれを補正する。また、当該重畳画像は、第1のパターンの第1のライン群(ピッチp1)と第2のパターンの第2のライン群(ピッチp2)との重畳によって生成される第1の周期的な濃度変化(モアレ)を有するとともに、第1のパターンの第2のライン群と第2のパターンの第1のライン群との重畳によって生成される第2の周期的な濃度変化をも有する。アライメント装置の算出手段は、2つの周期的な濃度変化を近似する2つの近似曲線を画像処理によって求め、当該2つの近似曲線の相互間の位置ずれに基づいて、両対象物相互間の位置ずれを算出する。【選択図】図22
請求項(抜粋):
第1の対象物と第2の対象物との両対象物に関するアライメントを行うアライメント装置であって、 前記第1の対象物に配置された第1のパターンと前記第2の対象物に配置された第2のパターンとの重なり画像である第1の重畳画像を取得する画像取得手段と、 前記第1の重畳画像に基づいて、所定平面内における前記両対象物相互間の位置ずれを算出する算出手段と、 前記両対象物を相対的に駆動して前記位置ずれを補正する位置補正手段と、 を備え、 前記第1のパターンおよび前記第2のパターンは、第1の方向において第1のピッチで平行配置される第1のライン群と、前記第1の方向において前記第1のピッチとは異なる第2のピッチで平行配置される第2のライン群とをそれぞれ有し、 前記第1の重畳画像は、 前記第1のパターンの前記第1のライン群と前記第2のパターンの前記第2のライン群との重畳によって生成される第1の周期的な濃度変化を前記第1の方向に有するとともに、 前記第1のパターンの前記第2のライン群と前記第2のパターンの前記第1のライン群との重畳によって生成される第2の周期的な濃度変化をも前記第1の方向に有し、 前記算出手段は、前記第1の周期的な濃度変化を近似する第1の近似曲線と前記第2の周期的な濃度変化を近似する第2の近似曲線とを、それぞれ、前記第1の重畳画像の前記第1の方向における複数の位置での画素値に基づいて求めるとともに、前記第1の近似曲線と前記第2の近似曲線との相互間の位置ずれに基づいて、前記両対象物相互間の前記第1の方向における第1の位置ずれを算出することを特徴とするアライメント装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  H01L 21/02
FI (3件):
H01L21/30 525W ,  H01L21/30 522D ,  H01L21/02 B
Fターム (4件):
5F046EA07 ,  5F046ED01 ,  5F046FC03 ,  5F046FC04

前のページに戻る