特許
J-GLOBAL ID：201003008578515752
気相成長装置、気相成長装置における対向面部材またはサセプタ上面カバー取外し方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
石川 壽彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-109862
公開番号（公開出願番号）：特開2010-255083
出願日： 2009年04月28日
公開日（公表日）： 2010年11月11日
要約：
【課題】対向面部材及び/またはサセプタ上面カバーの取外しの際にこれらに付着した生成物の落下によって悪影響を受けることのない気相成長装置を提供する。【解決手段】チャンバー本体3と、チャンバー蓋5と、チャンバー本体内に設置されて基板が載置されるサセプタ11と、サセプタ11に対向配置される対向面部材13とを備えた気相成長装置であって、対向面部材13を保持して昇降可能に構成された対向面部材昇降機構14と、対向面部材昇降機構14に保持された対向面部材13の下方に移動して平面視でサセプタ11を覆うように配置される搬送板16を有すると共に搬送板16に対向面部材13を載置して搬送する搬送装置とを備え、対向面部材昇降機構14は対向面部材13の保持と保持解除を行うことができる保持部を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
チャンバー本体と、該チャンバー本体に設けられて前記チャンバー本体を開閉するチャンバー蓋と、前記チャンバー本体内に設置されて基板が載置されるサセプタと、該サセプタに対向配置される対向面部材とを備え、前記サセプタに前記基板を載置した状態で前記基板を加熱し、前記対向面部材と前記サセプタとで形成される流路に原料ガスを供給することによって前記基板に薄膜を堆積させる気相成長装置であって、
前記対向面部材を保持して昇降可能に構成された対向面部材昇降機構と、該対向面部材昇降機構に保持された前記対向面部材の下方に移動して平面視で前記サセプタを覆うように配置される搬送板を有すると共に該搬送板に前記対向面部材を載置して搬送する搬送装置とを備え、前記対向面部材昇降機構は前記対向面部材の保持と保持解除を行うことができる保持部を備えてなることを特徴とする気相成長装置。
IPC (3件)：
C23C 16/44
, H01L 21/205
, H01L 21/31
C23C16/44 J
, H01L21/205
, H01L21/31 B
4K030DA06
, 4K030EA06
, 4K030FA10
, 4K030GA02
, 4K030GA06
, 4K030GA12
, 4K030KA02
, 4K030KA45
, 5F045BB10
, 5F045BB15
, 5F045DP15
, 5F045DP27
, 5F045DP28
, 5F045DQ10
, 5F045EB02
, 5F045EB05
, 5F045EK07
, 5F045EN08
