特許

J-GLOBAL ID：201003009574251200

成膜装置

発明者： 渥美 誠志
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-293068
公開番号（公開出願番号）：特開2010-121144
出願日： 2008年11月17日
公開日（公表日）： 2010年06月03日
要約：

【課題】基板内の成膜のカバレッジ性を改善することができ、異物があった場合においても、この異物に起因する欠陥部が生じる虞が無く、外部からの酸素や水分の進入を防止することができ、薄膜の信頼性を確保することができる成膜装置を提供する。【解決手段】基板Wを収納する真空容器と、この真空容器内かつ基板Wに対向して配設される複数対のハース4A、4B、5A、5Bと、これらのハース4A、4B、5A、5Bにプラズマビームを照射するプラズマガン6、7とを備え、ハース4A、4Bとハース5A、5Bとを時系列的に切り替えることにより、基板W上に成膜を行う。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板を収納する真空容器と、この真空容器内かつ前記基板に対向して配設される複数対の蒸着源と、これらの蒸着源にプラズマビームを照射する複数のプラズマガンとを備え、 前記複数対の蒸着源のそれぞれの放電電圧を各対毎に時系列的に切り替えることにより、これらの蒸着源から時系列的に粒子を蒸発させて前記基板上に成膜することを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：

C23C 14/32 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/10

FI (3件)：

C23C14/32 A ,  H05B33/14 A ,  H05B33/10

Fターム (18件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107BB02 ,  3K107BB08 ,  3K107CC23 ,  3K107CC27 ,  3K107CC45 ,  3K107EE46 ,  3K107EE55 ,  3K107GG04 ,  3K107GG32 ,  3K107GG34 ,  4K029AA24 ,  4K029BA41 ,  4K029CA04 ,  4K029DB14 ,  4K029DD05 ,  4K029KA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第4087645号公報