特許
J-GLOBAL ID：201003009936484275
ダイヤモンド被覆膜の研磨方法及びダイヤモンド被覆切削工具並びにダイヤモンド被覆切削工具の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河内 潤二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-201722
公開番号（公開出願番号）：特開2010-036297
出願日： 2008年08月05日
公開日（公表日）： 2010年02月18日
要約：
【課題】クラスターイオンビームにより、自形面を持ち、10μm四方の最大高さで1μmを超えるダイヤモンド被覆膜表面を平滑化し、切削抵抗が少なく、切り屑排出性に優れ、切れ味の良いダイヤモンド被覆切削工具及び製造方法を提供。【解決手段】超硬合金製の基体に、原子間力顕微鏡観察像において、10μm四方における最大高さが1μm以上のCVD法により形成された多結晶質ダイヤモンド被覆膜を形成した後、ダイヤモンド被覆膜4の垂直面7に対し、入射角θを60°超80°未満でガスクラスターイオンビーム1を照射して、少なくとも長手方向長さが5μm以上の複数の平行溝(研磨痕)2を形成し、かつ、10μm四方における最大高さで0.5μm以下又は中心線平均粗さで0.1μm以下に研磨する。また、超硬合金製の切削工具基体の切れ刃12の逃げ面13又はすくい面11を平滑化する。さらに切れ刃12′の丸み半径を10μm以下とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
超硬合金製の基体に、原子間力顕微鏡観察像において、10μm四方における最大高さが1μm以上のダイヤモンド被覆膜を形成した後、前記ダイヤモンド被覆膜に対し、入射角すなわち照射面の垂線とのなす角60°超80°未満でガスクラスターイオンビームを照射して、前記照射部分の表面が、原子間力顕微鏡観察像において、少なくとも長手方向長さが5μm以上の複数の平行溝を形成し、かつ、10μm四方における最大高さで0.5μm以下又は中心線平均粗さで0.1μm以下に研磨することを特徴とするダイヤモンド被覆膜の研磨方法。
IPC (6件)：
B23B 27/14
, B23B 27/20
, B23B 51/00
, B23C 5/16
, B23P 15/28
, C23C 16/27
B23B27/14 A
, B23B27/20
, B23B51/00 J
, B23C5/16
, B23P15/28 A
, C23C16/27
3C037CC01
, 3C037CC09
, 3C046FF03
, 3C046FF12
, 3C046FF22
, 3C046HH08
, 4K030AA09
, 4K030BA28
, 4K030BB03
, 4K030CA02
, 4K030CA11
, 4K030FA10
, 4K030FA17
, 4K030LA22
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (3件)
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