特許
J-GLOBAL ID:201003010599464788
光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人 安富国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-199724
公開番号(公開出願番号):特開2010-085985
出願日: 2009年08月31日
公開日(公表日): 2010年04月15日
要約:
【課題】干渉縞が発生せず外観が良好であり、更に、光学特性や基材とハードコート層との密着性に優れ、硬度が高い光学積層体を提供することを目的とする。【解決手段】光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体であって、上記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、上記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート及び/又はジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含むハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層であり、上記ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート及び/又はジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分100質量%中25質量%以上であり、上記コロイダルシリカの配合量は、上記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計100質量%中30〜70質量%であり、上記溶剤は、上記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなる光学積層体。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体であって、
前記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであり、
前記ハードコート層は、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート及び/又はジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートと、コロイダルシリカと、溶剤とを含むハードコート層形成用組成物から形成される樹脂層であり、
前記ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート及び/又はジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートの配合量は、前記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分100質量%中25質量%以上であり、
前記コロイダルシリカの配合量は、前記ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分との合計100質量%中30〜70質量%であり、
前記溶剤は、前記光透過性基材に対して浸透性を有しない溶剤からなる
ことを特徴とする光学積層体。
IPC (6件):
G02B 1/10
, G02B 1/04
, G02B 1/11
, G02B 5/30
, B32B 23/08
, B32B 7/02
FI (6件):
G02B1/10 Z
, G02B1/04
, G02B1/10 A
, G02B5/30
, B32B23/08
, B32B7/02 103
Fターム (54件):
2H149AA02
, 2H149AA18
, 2H149AA19
, 2H149AB15
, 2H149BA02
, 2H149FC02
, 2H149FC03
, 2H149FC04
, 2H149FD25
, 2K009AA02
, 2K009AA15
, 2K009BB28
, 2K009CC09
, 2K009CC24
, 2K009DD02
, 2K009EE03
, 4F100AA20B
, 4F100AA20C
, 4F100AJ06A
, 4F100AK25B
, 4F100AK25C
, 4F100AR00C
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA05
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100CA22B
, 4F100CA22C
, 4F100CC00B
, 4F100CC00C
, 4F100DE01B
, 4F100DE01C
, 4F100EH46B
, 4F100EH46C
, 4F100GB41
, 4F100JB14B
, 4F100JB14C
, 4F100JG03B
, 4F100JG03C
, 4F100JK06
, 4F100JK12
, 4F100JK12B
, 4F100JK12C
, 4F100JL06B
, 4F100JL06C
, 4F100JN01A
, 4F100JN18C
, 4F100JN30B
, 4F100JN30C
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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