特許
J-GLOBAL ID:201003011566972547

ベータゼオライトの製造方法及び水素化分解触媒の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大谷 保
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-061796
公開番号(公開出願番号):特開2010-215434
出願日: 2009年03月13日
公開日(公表日): 2010年09月30日
要約:
【課題】細孔径2〜10nmのいわゆるメソ細孔を有し、280m2/g以上の外表面積を付与したベータゼオライトの製造方法、及び該ベータゼオライトを用いた水素化分解触媒の製造方法を提供すること。【解決手段】原料ベータゼオライトを、水蒸気雰囲気下、550〜700°Cで処理し、次いで、酸処理する工程を含むベータゼオライトの製造方法であって、前記酸処理に使用する酸量が、原料ベータゼオライトの骨格外アルミニウムを、化学量論的に全量溶解するのに必要な酸量の、1〜1.5倍であることを特徴とするベータゼオライトの製造方法である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
原料ベータゼオライトを、水蒸気雰囲気下、550〜700°Cで処理し、次いで、酸処理する工程を含むベータゼオライトの製造方法であって、前記酸処理に使用する酸量が、原料ベータゼオライトの骨格外アルミニウムを、化学量論的に全量溶解するのに必要な酸量の、1〜1.5倍であることを特徴とするベータゼオライトの製造方法。
IPC (4件):
C01B 39/46 ,  B01J 29/78 ,  B01J 37/02 ,  C10G 47/16
FI (4件):
C01B39/46 ,  B01J29/78 M ,  B01J37/02 101C ,  C10G47/16
Fターム (37件):
4G073CZ25 ,  4G073FC23 ,  4G073FC25 ,  4G073GA12 ,  4G073GA13 ,  4G073GA14 ,  4G073UA02 ,  4G073UA04 ,  4G073UB38 ,  4G169AA01 ,  4G169AA03 ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BC59B ,  4G169BC67B ,  4G169CC02 ,  4G169CC05 ,  4G169DA06 ,  4G169EC04Y ,  4G169EC06Y ,  4G169EC14Y ,  4G169FA01 ,  4G169FB30 ,  4G169FB67 ,  4G169ZA19A ,  4G169ZA19B ,  4G169ZC04 ,  4H129AA02 ,  4H129CA25 ,  4H129DA21 ,  4H129KA12 ,  4H129KB03 ,  4H129KC17X ,  4H129KD15Y ,  4H129KD22Y ,  4H129KD44Y ,  4H129NA37
引用特許:
審査官引用 (7件)
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