特許
J-GLOBAL ID:201003011566972547
ベータゼオライトの製造方法及び水素化分解触媒の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
大谷 保
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-061796
公開番号(公開出願番号):特開2010-215434
出願日: 2009年03月13日
公開日(公表日): 2010年09月30日
要約:
【課題】細孔径2〜10nmのいわゆるメソ細孔を有し、280m2/g以上の外表面積を付与したベータゼオライトの製造方法、及び該ベータゼオライトを用いた水素化分解触媒の製造方法を提供すること。【解決手段】原料ベータゼオライトを、水蒸気雰囲気下、550〜700°Cで処理し、次いで、酸処理する工程を含むベータゼオライトの製造方法であって、前記酸処理に使用する酸量が、原料ベータゼオライトの骨格外アルミニウムを、化学量論的に全量溶解するのに必要な酸量の、1〜1.5倍であることを特徴とするベータゼオライトの製造方法である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
原料ベータゼオライトを、水蒸気雰囲気下、550〜700°Cで処理し、次いで、酸処理する工程を含むベータゼオライトの製造方法であって、前記酸処理に使用する酸量が、原料ベータゼオライトの骨格外アルミニウムを、化学量論的に全量溶解するのに必要な酸量の、1〜1.5倍であることを特徴とするベータゼオライトの製造方法。
IPC (4件):
C01B 39/46
, B01J 29/78
, B01J 37/02
, C10G 47/16
FI (4件):
C01B39/46
, B01J29/78 M
, B01J37/02 101C
, C10G47/16
Fターム (37件):
4G073CZ25
, 4G073FC23
, 4G073FC25
, 4G073GA12
, 4G073GA13
, 4G073GA14
, 4G073UA02
, 4G073UA04
, 4G073UB38
, 4G169AA01
, 4G169AA03
, 4G169BA07A
, 4G169BA07B
, 4G169BC59B
, 4G169BC67B
, 4G169CC02
, 4G169CC05
, 4G169DA06
, 4G169EC04Y
, 4G169EC06Y
, 4G169EC14Y
, 4G169FA01
, 4G169FB30
, 4G169FB67
, 4G169ZA19A
, 4G169ZA19B
, 4G169ZC04
, 4H129AA02
, 4H129CA25
, 4H129DA21
, 4H129KA12
, 4H129KB03
, 4H129KC17X
, 4H129KD15Y
, 4H129KD22Y
, 4H129KD44Y
, 4H129NA37
引用特許:
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