特許
J-GLOBAL ID:201003012378958894

ヒト皮膚を修復するための化粧的方法および化粧用組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 平木 祐輔 ,  石井 貞次 ,  藤田 節 ,  新井 栄一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-521072
公開番号(公開出願番号):特表2010-536764
出願日: 2008年07月24日
公開日(公表日): 2010年12月02日
要約:
本発明は、ヒト皮膚に対する、環境、日々のストレス、日光曝露、または早期老化の悪影響を修復するための方法および組成物であって、レスベラトロールまたはその誘導体および少なくとも1種のDNA修復酵素を含有する局所用組成物を身体の休息期間の前に皮膚に適用するステップを含む、上記方法および上記組成物に関する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ヒト皮膚に対する、環境、日々のストレス、日光曝露、または早期老化の悪影響を修復するための方法であって、レスベラトロールまたはその誘導体および少なくとも1種のDNA修復酵素を含む局所用組成物を身体の休息期間の前に皮膚に適用するステップを含む、上記方法。
IPC (5件):
A61K 8/34 ,  A61K 8/37 ,  A61K 8/66 ,  A61K 8/55 ,  A61Q 19/00
FI (5件):
A61K8/34 ,  A61K8/37 ,  A61K8/66 ,  A61K8/55 ,  A61Q19/00
Fターム (57件):
4C083AA032 ,  4C083AA072 ,  4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AB032 ,  4C083AB172 ,  4C083AB192 ,  4C083AB242 ,  4C083AB282 ,  4C083AB352 ,  4C083AB432 ,  4C083AC012 ,  4C083AC072 ,  4C083AC112 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC172 ,  4C083AC182 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC391 ,  4C083AC392 ,  4C083AC402 ,  4C083AC422 ,  4C083AC471 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AC542 ,  4C083AC582 ,  4C083AC682 ,  4C083AC742 ,  4C083AC852 ,  4C083AC901 ,  4C083AC902 ,  4C083AC912 ,  4C083AD012 ,  4C083AD022 ,  4C083AD072 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD202 ,  4C083AD212 ,  4C083AD332 ,  4C083AD352 ,  4C083AD412 ,  4C083AD471 ,  4C083AD492 ,  4C083AD572 ,  4C083AD662 ,  4C083CC05 ,  4C083CC07 ,  4C083DD14 ,  4C083DD31 ,  4C083DD47 ,  4C083EE12 ,  4C083EE13
引用特許:
審査官引用 (5件)
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引用文献:
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