ドルゾラミドの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (10件)：鈴江武彦 , 蔵田昌俊 , 河野哲 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 村松貞男 , 野河信久 , 砂川克
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-506995
公開番号（公開出願番号）：特表2010-526127
出願日： 2008年05月07日
公開日（公表日）： 2010年07月29日
要約：

ドルゾラミドの製造方法およびドルゾラミドの製造において有用な中間体の製造方法を提供する。特に、式(viii)のアセトアミドスルホンを製造する方法であって、過酸、tert-ブチルヒドロペルオキシド、ジメチルジオキシラン、セレニウムジオキシド、m-フェナントロリンジ-N-オキシド、硝酸および過酸化水素からなる群より選択される酸化剤の存在下で式(vii)のヒドロキシスルホンアミドを酸化することを含んでなる方法が提供される。式(ix-a)のアセトアミドスルホンの製造方法であって、アセトニトリルおよび酸の存在下で、式(viii)のヒドロキシスルホンを式(ix-a)のアセトアミドスルホンに変換することを含んでなる方法も提供される。ドルゾラミドのトランス異性体とドルゾラミドのシス異性体の混合物からドルゾラミドのシスおよびトランス異性体を分離する方法であって、異性体混合物をカルボン酸と反応させることを含んでなる方法も提供される。【化1】【化2】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

過酸、tert-ブチルヒドロペルオキシド、ジメチルジオキシラン、セレニウムジオキシド、m-フェナントロリンジ-N-オキシド、硝酸および過酸化水素からなる群より選択される酸化剤の存在下で、式(vii)のヒドロキシスルホンアミドを酸化することを含んでなる、式(viii)のアセトアミドスルホンの製造方法。

IPC (1件)：

C07D 495/04

FI (1件)：

C07D495/04 111

Fターム (20件)：

4C071AA01 , 4C071BB01 , 4C071CC22 , 4C071DD12 , 4C071EE13 , 4C071FF25 , 4C071GG01 , 4C071HH08 , 4C071HH11 , 4C071HH17 , 4C071KK08 , 4C071KK14 , 4C071KK30 , 4C071LL01 , 4C086AA01 , 4C086AA04 , 4C086CA04 , 4C086ZA33 , 4H039CA80 , 4H039CC60

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開昭61-158978

前のページに戻る