特許
J-GLOBAL ID:201003013695620463
エチレンの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-313770
公開番号(公開出願番号):特開2010-030902
出願日: 2006年11月21日
公開日(公表日): 2010年02月12日
要約:
【課題】エタノールの脱水反応によりエチレンを製造するに際し、高転化率で高純度のエチレンを高収率で製造する。【解決手段】原料として供給するエタノール中の水分を0.1wt%以上とする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
エタノールの脱水反応によるエチレンの製造方法において、供給する含水エタノール中の水分が0.1wt%以上であることを特徴とするエチレンの製造方法。
IPC (3件):
C07C 1/24
, C07C 11/04
, C07B 61/00
FI (3件):
C07C1/24
, C07C11/04
, C07B61/00 300
Fターム (7件):
4H006AA02
, 4H006AC13
, 4H006BA09
, 4H006BA30
, 4H039CA21
, 4H039CE90
, 4H039CG10
引用特許:
出願人引用 (3件)
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特開昭58-146516号公報
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USP5914433号公報
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特開平1-233236号公報
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