特許
J-GLOBAL ID:201003014115953211
接点デバイスの製造方法及び接点デバイス
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
青木 宏義
, 天田 昌行
, 岡田 喜雅
, 溝口 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-043759
公開番号(公開出願番号):特開2010-199374
出願日: 2009年02月26日
公開日(公表日): 2010年09月09日
要約:
【課題】検出感度が高く良好な接点を形成可能な接点デバイスの製造方法及び接点デバイスを提供すること。【解決手段】導電性の基板上に立設された固定部材と、前記固定部材との間に接点を形成し得るように該固定部材から所定間隔をとって配置された可動部材とを形成するエッチング工程を含む接点デバイスの製造方法において、エッチング工程では、エッチングガスとデポジションガスとを共に用いて、エッチングと該エッチングにより形成される側壁の保護膜形成とを並行して行うことにより、スキャロッピングなどの凹凸のない平滑な接点を形成する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
導電性の基板上に立設された固定部材と、前記固定部材との間に接点を形成し得るように該固定部材から所定間隔をとって配置された可動部材とを形成するエッチング工程を含む接点デバイスの製造方法において、エッチング工程では、エッチングガスとデポジションガスとを用いて、エッチングと該エッチングにより形成される側壁の保護膜形成とを並行して行うことを特徴とする接点デバイスの製造方法。
IPC (3件):
H01L 29/84
, H01H 11/00
, H01L 21/306
FI (3件):
H01L29/84 Z
, H01H11/00 Z
, H01L21/302 105A
Fターム (27件):
4M112AA07
, 4M112BA10
, 4M112CA21
, 4M112CA23
, 4M112CA31
, 4M112CA33
, 4M112DA03
, 4M112DA09
, 4M112DA18
, 4M112EA03
, 4M112EA06
, 4M112EA11
, 4M112EA18
, 4M112FA20
, 5F004CA01
, 5F004CA02
, 5F004DA01
, 5F004DA16
, 5F004DA18
, 5F004DA26
, 5F004DB01
, 5F004EA13
, 5F004EA37
, 5F004EB08
, 5G023BA11
, 5G023CA27
, 5G023CA29
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