特許

J-GLOBAL ID：201003014595641001

真空処理装置

発明者： 小林 浩之 ,  前田 賢治 ,  伊澤 勝 ,  縄田 誠
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-019295
公開番号（公開出願番号）：特開2010-174779
出願日： 2009年01月30日
公開日（公表日）： 2010年08月12日
要約：

【課題】被処理体に付着する異物粒子数を低減させた真空処理装置を提供する。【解決手段】排気系の調圧バルブとターボ分子ポンプの間の空間に、中心部にガスが通るための通路を設けた部材と、該部材の外周にターボ分子ポンプの回転ブレードと逆向きに傾斜した固定ブレードを複数枚設置して構成された異物粒子飛散防止ユニットを設置した。【選択図】図2B

請求項（抜粋）：

真空処理室と、該真空処理室に処理ガスを供給するためのガス供給手段と、前記真空処理室を減圧するためのターボ分子ポンプとを有する真空処理装置において、 前記ターボ分子ポンプと前記真空処理室との間に配置された異物粒子飛散防止ユニットを有し、 該異物粒子飛散防止ユニットは、ブレード支持リングと、該ブレード支持リングの外周に設置された複数枚のブレードと、該複数枚のブレードの下流側に形成された環状空間とを有し、 前記異物粒子飛散防止ユニットのブレードの傾き方向は、前記ターボ分子ポンプの回転ブレードのブレード傾き方向とは逆向きであり、各ブレード間の隙間が第1の排気ルートを構成し、 前記ブレード支持リングは、中央に穴を有し、該穴がガスの通り道となる第2の排気ルートを構成し、 前記環状空間は、前記第2の排気ルートを経由したガスを径方向に輸送し、前記第1の排気ルートを通過したガスと合流させ前記ターボ分子ポンプの回転ブレードへ導く第3の排気ルートを構成している ことを特徴とする真空処理装置。

IPC (5件)：

F04D 19/04 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/44

FI (6件)：

F04D19/04 G ,  H01L21/31 C ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 101B ,  H01L21/302 101G ,  C23C16/44 J

Fターム (24件)：

3H131AA02 ,  3H131BA03 ,  3H131CA31 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA11 ,  4K030FA03 ,  4K030KA02 ,  4K030KA28 ,  4K030LA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BA09 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BC02 ,  5F004CA09 ,  5F045AA08 ,  5F045BB15 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EG04 ,  5F045EG08 ,  5F045EH14