特許

J-GLOBAL ID：201003015703526326

化粧料用組成物および毛髪化粧料

発明者： 石窪 章 ,  與田 祥也
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-035390
公開番号（公開出願番号）：特開2010-215619
出願日： 2010年02月19日
公開日（公表日）： 2010年09月30日
要約：

【課題】界面活性剤などを含む洗浄料による洗浄後の金属のピリチオン塩の残留性に優れる化粧料用組成物および毛髪洗浄料を提供する。【解決手段】特定量のヒドロキシル基及び/又はノニオン性置換基のみを有するアミド基と、特定量のカチオン性基(以下これらを官能基と称することがある)とを有する重合体と、金属のピリチオン塩とを含有する化粧料用組成物、および特定構造のカチオン性ビニル系単量体に相当する構成単位と、特定構造のノニオン性ビニル系単量体に相当する構成単位とを含む共重合体と、金属のピリチオン塩とを含有する化粧料用組成物、並びにそれらを用いてなる毛髪化粧料。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

カチオン性基と、ヒドロキシル基およびノニオン性置換基のみを有するアミド基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基とを有し、且つ該カチオン性基の量が0.1〜10.0meq/gであり、且つ前記ヒドロキシル基の量として1.5〜20.0meq/g、前記ノニオン性置換基のみを有するアミド基の量として1.5〜10.0meq/gの少なくとも一方を満たす、カチオン性重合体と、金属のピリチオン塩とを含有する化粧料用組成物であって、該化粧料用組成物を毛髪洗浄料として用いたときの金属のピリチオン塩の吸着量が、未処理毛及びダメージ毛の少なくとも一方で20μg/g以上である化粧料用組成物。

IPC (3件)：

A61K 8/81 ,  A61K 8/49 ,  A61Q 5/02

FI (3件)：

A61K8/81 ,  A61K8/49 ,  A61Q5/02

Fターム (10件)：

4C083AC642 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC851 ,  4C083AC852 ,  4C083AD131 ,  4C083AD132 ,  4C083BB05 ,  4C083CC38 ,  4C083EE23

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭58-196300
  
• 洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-211274   出願人：三菱化学株式会社