特許

J-GLOBAL ID：201003016202165419

反射防止性を有するハードマスク組成物及びこれを利用した材料のパターン形成方法

発明者： キム,ミン ス ,  ウ,ドン ソン ,  オゥ,チャン イル ,  ユン,キョン ホ ,  ヒュン,キュン ヘ ,  イ,ジン ク ,  キム,ジョン ソプ ,  チョン,フヮン スン ,  ナム,イリーナ ,  トカレヴァ,ナタリア
出願人/特許権者： チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 八田国際特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-502002
公開番号（公開出願番号）：特表2010-524224
出願日： 2007年12月31日
公開日（公表日）： 2010年07月15日
要約：

反射防止特性を有するハードマスク組成物が提供される。ハードマスク組成物はリソグラフィーに好適で、優れた光学的特性及び機械的特性を有し、かつ、高いエッチング選択性を示す。また、ハードマスク組成物は、スピンオン塗布技術により容易に塗布することができる。有利なことに、ハードマスク組成物は、短波長リソグラフィーに有用であり、最小の残留酸含有量を有する。

請求項（抜粋）：

下記の化学式1で示される芳香族環含有重合体。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/11 ,  C08G 61/02 ,  C08L 65/00

FI (4件)：

H01L21/30 574 ,  G03F7/11 503 ,  C08G61/02 ,  C08L65/00

Fターム (28件)：

2H125AE04N ,  2H125AF29N ,  2H125AF38N ,  2H125AM79N ,  2H125AM93N ,  2H125AN39N ,  2H125BA21N ,  2H125BA24N ,  2H125CA12 ,  2H125CB08 ,  2H125CB09 ,  2H125DA22 ,  2H125DA24 ,  4J002CE00W ,  4J002CE00X ,  4J002FD146 ,  4J002GP03 ,  4J032CA02 ,  4J032CA12 ,  4J032CA43 ,  4J032CA45 ,  4J032CB01 ,  4J032CB04 ,  4J032CE12 ,  4J032CG00 ,  4J032CG03 ,  5F046NA18 ,  5F046PA07