特許
J-GLOBAL ID:201003016342677177
カーボンナノチューブの成長用基板
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-096592
公開番号(公開出願番号):特開2010-248007
出願日: 2009年04月13日
公開日(公表日): 2010年11月04日
要約:
【課題】CVD法を用いてカーボンナノチューブを効率的に生成できる技術を提供する。【解決手段】成長用基板100は、中空円筒状を有しており、カーボンナノチューブ生成層20と、発電層30とを備える。カーボンナノチューブ生成層20は、外表面にカーボンナノチューブの生成を促進させるための触媒が担持されている。発電層30は、カーボンナノチューブ生成層20の下層に配置され、固体電解質35と、固体電解質35の外面に設けられたアノード33と、固体電解質35の内面に設けられたカソード37とを有している。発電層30は、カーボンナノチューブの生成に際して、アノード33にカーボンナノチューブ生成層20から透過した副産物である水素と、カソード37に外部から供給された酸化ガスとを利用して発電する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
化学気相成長法において、加熱炉に収容されて、カーボンナノチューブの生成に供されるカーボンナノチューブの成長用基板であって、
外表面にカーボンナノチューブの生成を促進させるための触媒が担持され、中空円筒状に形成された、水素を選択的に透過するカーボンナノチューブ生成層と、
中空円筒状の固体電解質と、前記固体電解質の外面に設けられたアノードと、前記固体電解質の内面に設けられたカソードとを有し、前記カーボンナノチューブ生成層の下層に配置された発電層と、
を備え、
前記発電層は、前記カーボンナノチューブの生成に際して、前記カーボンナノチューブの副産物として生成され前記カーボンナノチューブ生成層から前記アノードに透過した水素と、前記加熱炉の外部から前記カソードに供給された酸素を含む酸化ガスとを利用して発電する、カーボンナノチューブの成長用基板。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (24件):
4G146AA11
, 4G146AB06
, 4G146AD40
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BB22
, 4G146BB23
, 4G146BC01
, 4G146BC09
, 4G146BC18
, 4G146BC20
, 4G146BC24
, 4G146BC33B
, 4G146BC34B
, 4G146BC42
, 4G146BC44
, 4G146BC50
, 4G146DA03
, 4G146DA22
, 4G146DA29
, 4G146DA33
, 4G146DA40
, 4G146DA47
, 4G146DA48
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