特許
J-GLOBAL ID：201003016569732590
光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-167688
公開番号（公開出願番号）：特開2010-010380
出願日： 2008年06月26日
公開日（公表日）： 2010年01月14日
要約：
【課題】光学素子における光学特性の劣化を低減することができる光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】チャンバ12内におけるレチクルRの近傍位置、照明光学系14における筐体18の内部、投影光学系16における筐体28の内部にマスアナライザ41a〜41cをそれぞれ配置する。そして、各マスアナライザ41a〜41cにより検出された炭化水素系ガスの分圧に基づき、チャンバ12内の各位置における酸素分圧がミラー19,21,22,24,25,29〜34及びレチクルRの表面に堆積した炭素量を除去するための必要十分な圧力値となるように、各々対応する流量調整バルブ45a〜45cの開度を調整することでチャンバ12内の各位置に供給する酸素量を個別に制御する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被照射体に光を導くための複数の光学素子を備えた光学系であって、
少なくとも1つの前記光学素子を内部に収容する筐体と、
前記筐体内における劣化要因ガスの分圧を検出する分圧検出部と、
前記光学素子の光学特性の劣化を低減させる劣化低減ガスの前記筐体内における分圧を調整する分圧調整部と、を備え、
前記分圧調整部は、前記分圧検出部により検出された前記劣化要因ガスの分圧に基づき、前記劣化低減ガスの前記筐体内における分圧を調整することを特徴とする光学系。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L21/30 503G
, H01L21/30 517
, H01L21/30 531A
, G03F7/20 521
5F046AA22
, 5F046BA05
, 5F046CB02
, 5F046CB25
, 5F046DA04
, 5F046DA27
, 5F046DB03
, 5F046DC07
, 5F046GA07
, 5F046GA14
, 5F046GB01
