特許
J-GLOBAL ID:201003016700146812
架橋フッ素樹脂複合材料の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
西川 繁明
, 野田 直人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-000445
公開番号(公開出願番号):特開2010-155443
出願日: 2009年01月05日
公開日(公表日): 2010年07月15日
要約:
【課題】放射線の照射による架橋法によって、耐摩耗性が顕著に向上し、基材との密着性にも優れた架橋フッ素樹脂層を有する架橋フッ素樹脂複合材料の製造方法を提供すること。【解決手段】基材上にフッ素樹脂層を形成する工程1;フッ素樹脂層を焼成する工程2;未架橋フッ素樹脂層の温度を、フッ素樹脂の融点より60°C低い温度から該融点より1°C低い温度までの範囲内の温度に調整する工程3;及び温度調整した未架橋フッ素樹脂層に、酸素濃度1,000ppm以下の雰囲気下、照射線量が50〜250kGyの範囲内の放射線を照射して、未架橋フッ素樹脂を架橋する工程4;を含む架橋フッ素樹脂複合材料の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
基材上に架橋フッ素樹脂層が形成された架橋フッ素樹脂複合材料の製造方法において、
(1)基材上に、未焼成かつ未架橋のフッ素樹脂層を形成する工程1;
(2)該フッ素樹脂層を、該フッ素樹脂の融点(Tm)から該融点より150°C高い温度(Tm+150°C)までの範囲内の温度に加熱して焼成する工程2;
(3)焼成した未架橋フッ素樹脂層の温度を、該フッ素樹脂の融点(Tm)より60°C低い温度(Tm-60°C)から該融点より1°C低い温度(Tm-1°C)までの範囲内の温度に調整する工程3;及び
(4)温度調整した該未架橋フッ素樹脂層に、酸素濃度1,000ppm以下の雰囲気下、照射線量が50〜250kGyの範囲内の放射線を照射して、未架橋フッ素樹脂を架橋する工程4;
を含む架橋フッ素樹脂複合材料の製造方法。
IPC (4件):
B32B 27/30
, B32B 15/08
, B32B 15/082
, B05D 7/24
FI (4件):
B32B27/30 D
, B32B15/08 K
, B32B15/08 102B
, B05D7/24 302L
Fターム (33件):
4D075BB28Z
, 4D075BB42Z
, 4D075BB47Z
, 4D075BB52Z
, 4D075BB93Z
, 4D075CA02
, 4D075CA13
, 4D075DA08
, 4D075DB07
, 4D075DC19
, 4D075DC21
, 4D075EB16
, 4D075EB18
, 4F100AB10A
, 4F100AB31A
, 4F100AK17B
, 4F100AK17J
, 4F100AK18B
, 4F100AK18J
, 4F100AL01B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100EJ05B
, 4F100EJ053
, 4F100EJ48B
, 4F100EJ483
, 4F100EJ523
, 4F100EJ533
, 4F100EJ583
, 4F100GB41
, 4F100GB71
, 4F100JK06
, 4F100JK09
引用特許:
出願人引用 (6件)
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摺動部材
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-089767
出願人:日本原子力研究所, 日立電線株式会社, 株式会社レイテック, 旭硝子株式会社
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特許第3317452号公報
-
改質ふっ素樹脂複合材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-317098
出願人:日立電線株式会社
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