特許

J-GLOBAL ID：201003016866465754

芳香族環を含む酸発生剤

発明者： ジュン-フン オー ,  ドン-チョル ソ ,  ジン-ボン シン
出願人/特許権者： コリア クンホ ペトロケミカル カンパニー リミテッド
代理人 (2件)： 藤田 和子 ,  新山 雄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-101787
公開番号（公開出願番号）：特開2010-106236
出願日： 2009年04月20日
公開日（公表日）： 2010年05月13日
要約：

【課題】化学増幅型レジスト組成物において、優れた解像度とライン幅ラフネスを有し、ArF液浸工程において水への溶出の少ない新規な酸発生剤およびその製造時に用いられる中間物質を合成する製造方法を提供。【解決手段】酸発生剤は下記化学式で表される。XはC1〜10のアルキレン、-X1-O-X2-またはN、SおよびFからなる群から選択されたヘテロ原子であり、前記X1およびX2は各々独立にC1〜10のアルキレンであり、Yは1つ以上の芳香族環を含むC5〜30の炭化水素環であり、前記炭化水素環の環状の1つ以上のH原子が-O-Y1、-CO-Y2、C1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基など、前記Y1およびY2は各々独立に炭素数1〜6のアルキル基であり、nは0または5の整数であり、A+は有機対イオンである。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記化学式1で表される酸発生剤:

IPC (6件)：

C09K 3/00 ,  C07C 323/52 ,  C07C 309/12 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C07C 381/12

FI (6件)：

C09K3/00 K ,  C07C323/52 ,  C07C309/12 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C07C381/12

Fターム (20件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF35P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AH12 ,  2H125AH17 ,  2H125AJ13Y ,  2H125AJ23Y ,  2H125AJ55Y ,  2H125AN39P ,  2H125AN67P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4H006AA01 ,  4H006AB76 ,  4H006AB84

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 重合性アニオンを有するスルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-236884   出願人：信越化学工業株式会社