特許

J-GLOBAL ID：201003017777834599

弾性表面波霧化装置

発明者： 石上 陽平 ,  桐ヶ谷 昌弘
出願人/特許権者： パナソニック電工株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-103928
公開番号（公開出願番号）：特開2010-253347
出願日： 2009年04月22日
公開日（公表日）： 2010年11月11日
要約：

【課題】基板上に供給された液体の動きを制御することが可能な弾性表面波霧化装置を提供する。【解決手段】弾性表面波を生成する基板部12を備え、基板部12に供給される液体13を弾性表面波によって霧化する弾性表面波霧化装置1であって、基板部表面には、基板部12の素地とは親水性の程度が異なる領域30aが形成されており、親水性の程度が異なる領域30aでは、親水性の程度が弾性表面波の伝搬方向xに沿って変化している構成とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

弾性表面波を生成する基板部を備え、 前記基板部に供給される液体を弾性表面波によって霧化する弾性表面波霧化装置であって、 前記基板部表面には、前記基板部の素地とは親水性の程度が異なる領域が形成されており、 前記親水性の程度が異なる領域では、親水性の程度が前記弾性表面波の伝搬方向に沿って変化していることを特徴とする弾性表面波霧化装置。

IPC (1件)：

B05B 17/06

FI (1件)：

B05B17/06

Fターム (5件)：

4D074BB03 ,  4D074DD07 ,  4D074DD22 ,  4D074DD32 ,  4D074DD70