特許

J-GLOBAL ID：201003018513950759

EUVマスク用空間映像測定装置及び方法

発明者： 李 東 根 ,  金 成 洙
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人共生国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-116170
公開番号（公開出願番号）：特開2010-282192
出願日： 2010年05月20日
公開日（公表日）： 2010年12月16日
要約：

【課題】EUVマスク用空間映像測定装置及び方法を提供する。【解決手段】露光器を使用してスキャニングすることで形成された半導体パターンと相応するパターンの空間映像を測定するための空間映像測定装置は、パターンを有するEUVマスクの第1側上に配置され、EUV光をEUVマスクの法線に対して露光器が配置される角度と同じ角度でEUVマスクの一部分上に集束させるように調節されたゾーンプレートレンズ、及びEUVマスクの第2側上に配置され、EUVマスクからEUV光のエネルギーを感知するように調節された検出部を備え、ゾーンプレートレンズ、検出部、及び露光器それぞれの開口数NAzoneplate、NAdetector、及びNAscannerと、露光器の斜入射度(σ)とは、NAzoneplate=NAscanner/n、及びNAdetector=NAscanner/n×σの関係を満たし、nは露光器の縮小倍率である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

露光器を使用してスキャニングすることで形成された半導体パターンと相応するパターンの空間映像を測定するための装置であって、 上部に反射型EUVマスクが位置し、該反射型EUVマスクをx軸及びy軸のいずれかの方向又は両方向に移動させるように調節される移動部と、 前記移動部の上部に配置され、干渉EUV光のうちの一定波長の光を選択して反射させるように調節されたX線鏡と、 前記移動部と前記X線鏡との間に位置し、反射された前記干渉EUV光を前記反射型EUVマスクの一部領域に集束させるように調節されたゾーンプレートレンズと、 前記移動部の上部に配置され、集束された前記干渉EUV光が前記反射型EUVマスクの一部領域によって反射される場合、反射された前記干渉EUV光のエネルギーを感知するように調節された検出部と、を備え、 前記ゾーンプレートレンズ、前記検出部、及び前記露光器のそれぞれの開口数NAzoneplate、NAdetector、及びNAscannerと、前記露光器の斜入射度(σ)とは、NAzoneplate=NAscanner/4、及びNAdetector=NAscanner/4×σの関係を満たすことを特徴とする空間映像測定装置。

IPC (2件)：

G03F 1/16 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F1/16 F ,  H01L21/30 531M

Fターム (6件)：

2H095BD04 ,  2H095BD11 ,  5F046GB01 ,  5F046GB02 ,  5F046GC03 ,  5F046GD11