光断層画像化装置及び光断層画像化装置における干渉信号の処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：松浦憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-174197
公開番号（公開出願番号）：特開2010-014514
出願日： 2008年07月03日
公開日（公表日）： 2010年01月21日
要約：

【課題】SS-OCTにおいてOCT測定によって得られた複数の干渉信号データを用いて処理する際に、位相ずれによってその効果が低下することなく効率的に断層画像の画質を改善する。【解決手段】SS-OCT計測法を用いた光断層画像化装置における干渉信号の処理方法であって、測定対象の同一測定部位を複数回計測して得られた複数の干渉信号の位相ずれを補正する位相補正処理を行うことを特徴とする。また、位相補正処理を行った後、フーリエ変換前に平均化処理を行うことを特徴とする。また、位相補正処理を行った後、ドップラー方式を適用することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

SS-OCT計測法を用いた光断層画像化装置における干渉信号の処理方法であって、測定対象の同一測定部位を複数回計測して得られた複数の干渉信号の位相ずれを補正する位相補正処理を行うことを特徴とする光断層画像化装置における干渉信号の処理方法。

IPC (3件)：

G01N 21/17 , A61B 10/00 , A61B 1/00

FI (3件)：

G01N21/17 620 , A61B10/00 E , A61B1/00 300D

Fターム (18件)：

2G059AA05 , 2G059BB12 , 2G059EE02 , 2G059EE09 , 2G059EE17 , 2G059FF02 , 2G059GG01 , 2G059JJ05 , 2G059JJ13 , 2G059JJ17 , 2G059JJ22 , 2G059LL04 , 2G059MM01 , 2G059MM03 , 2G059MM09 , 2G059NN01 , 4C061CC04 , 4C061LL10

引用特許：

出願人引用 (2件)

米国特許出願公開第2006/0109423号明細書
米国特許出願公開第2006/0279742号明細書

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