特許

J-GLOBAL ID：201003019611222903

フォトリソグラフィーのための組成物および方法

発明者： ダヤン・ワン ,  チュンイ・ウー
出願人/特許権者： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-000154
公開番号（公開出願番号）：特開2010-237646
出願日： 2010年01月04日
公開日（公表日）： 2010年10月21日
要約：

【課題】フォトレジスト組成物上に適用される上塗り層組成物を提供する。【解決手段】フォトレジスト組成物上に適用される上塗り層組成物が提供される。この組成物について、液浸リソグラフィー処理に対する特別な適用性を見いだした。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

フォトレジスト層上での上塗り層の形成における使用に適した組成物であって、 当該組成物は互いに異なっている第1樹脂、第2樹脂および第3樹脂を含み; 第1樹脂は1種以上のフッ素化基を含み、かつ第2樹脂および第3樹脂それぞれよりも大きな重量比率で組成物中に存在しており; 第2樹脂は、第1樹脂および第3樹脂の表面エネルギーよりも低い表面エネルギーを有し;並びに 第3樹脂は1種以上の強酸基を含む; 組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/11 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/11 501 ,  G03F7/38 501 ,  H01L21/30 575 ,  H01L21/30 515D

Fターム (17件)：

2H096FA10 ,  2H125AM22N ,  2H125AM99N ,  2H125AN11N ,  2H125AN31N ,  2H125AN37N ,  2H125AN39N ,  2H125BA02N ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CD07N ,  2H125CD39 ,  2H125DA03 ,  2H125FA03 ,  5F046CB01 ,  5F046JA22