特許
J-GLOBAL ID：201003020541245259
ナノインプリント用モールドおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
米田 潤三
, 皿田 秀夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-108791
公開番号（公開出願番号）：特開2010-258326
出願日： 2009年04月28日
公開日（公表日）： 2010年11月11日
要約：
【課題】光インプリント後の被加工物との離型性に優れ、かつ、被加工物の意図しない部位への露光を確実に抑制できるナノインプリント用モールドと、このようなナノインプリント用モールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。【解決手段】透明な基材(2)の表面(2a)側に凹凸パターン(3)を備えたパターン領域(4)と、このパターン領域の周囲に位置する非パターン領域(5)を画定し、基材(2)のパターン領域(4)の表面(2a)は非パターン領域(5)の表面(2a′)に対して段差(6)を介し凸状とし、基材(2)の非パターン領域(5)の表面(2a′)を、遮光膜(8)と機能性膜(9)がこの順序で積層されてなる積層膜(7)で被覆したものとし、機能性膜は光吸収膜あるいは低反射膜とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
透明な基材と、該基材の表面側に画定されたパターン領域と該パターン領域の周囲に位置する非パターン領域とを有し、前記基材の前記パターン領域の表面は前記非パターン領域の表面に対して段差を介し凸状であり、かつ、前記基材の前記パターン領域の表面は凹凸パターンを備え、前記基材の前記非パターン領域の表面は基材側から遮光膜と機能性膜がこの順序で積層されてなる積層膜で被覆されており、該機能性膜は光吸収膜または低反射膜であることを特徴としたナノインプリント用モールド。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B29C 59/02
, B29C 33/38
H01L21/30 502D
, B29C59/02 B
, B29C33/38
4F202AA44
, 4F202AG05
, 4F202AJ09
, 4F202AM33
, 4F202AR12
, 4F202AR20
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CD30
, 4F202CM90
, 4F209AA44
, 4F209AJ09
, 4F209AM33
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
