特許
J-GLOBAL ID：201003020639622026
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-298679
公開番号（公開出願番号）：特開2010-044347
出願日： 2008年11月21日
公開日（公表日）： 2010年02月25日
要約：
【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法、並びに、当該レジスト組成物用の酸発生剤および当該酸発生剤として有用である新規な化合物の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式(b1)で表される化合物からなる酸発生剤を含有するレジスト組成物。式(b1)中、Y1は炭素数1〜4のフッ素化アルキレン基、Xは炭素数3〜30の脂肪族環式基;R11’〜R13’はそれぞれアリール基又はアルキル基であり、これらのうち少なくとも1つは一般式(b1-0)[R52は鎖状又は環状の炭化水素基、f及びgはそれぞれ0又は1を表す。]で表される置換基を有するアリール基であり、R11’〜R13’のうちの2つのアルキル基が相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成していてもよい。][化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004
, G03F 7/039
, C07C 381/12
, H01L 21/027
G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, C07C381/12
, H01L21/30 502R
2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025CC20
, 2H025FA01
, 2H025FA10
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB92
, 4H006TN60
出願人引用 (2件)
審査官引用 (7件)
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