特許
J-GLOBAL ID：201003020692972659

エポキシシラン、その製造プロセス、およびそれを含有する硬化性組成物

発明者：
ス,シウ-チン,エイチ

ス,シウ-チン,エイチ について

, 
ガイヤー,ケンダル,エル

ガイヤー,ケンダル,エル について

, 
ポール,エリック,アール

ポール,エリック,アール について

, 
ボロヴィク,アレキサンダー,エス

ボロヴィク,アレキサンダー,エス について


出願人/特許権者：
モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド

モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド について


代理人 (3件)： 古谷 聡 ,  溝部 孝彦 ,  西山 清春
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-553587
公開番号（公開出願番号）：特表2010-520952
出願日： 2008年03月06日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：
少なくとも一つのエポキシ基と、少なくとも一つの加水分解性シリル基と、そして一つもしくはそれ以上の結合であって、酸素、硫黄、および窒素からなる群より選択され、少なくとも一つのヘテロ原子が窒素であり、結合においてエポキシ基と加水分解性シリル基の両方が同じ窒素ヘテロ原子へと直接もしくは間接に結合するような結合が存在しない、ヘテロ原子へと結合するカルボニル基を含有する結合とを含有する、エポキシシランが提供される。
請求項（抜粋）：
エポキシシランであって、少なくとも一つのエポキシ基と、少なくとも一つの加水分解基と、そして一つもしくはそれ以上の結合であって、酸素、硫黄、および窒素からなる群より選択され、少なくとも一つのヘテロ原子が窒素であり、結合においてエポキシ基と加水分解性シリル基の両方が同じ窒素ヘテロ原子へと直接もしくは間接に結合するような結合が存在しない、ヘテロ原子へと結合するカルボニル基を含有する結合とを含有する、エポキシシラン。
IPC (2件)：
C08G 77/46 ,  C07F 7/18
FI (2件)：
C08G77/46 ,  C07F7/18 S
Fターム (34件)：
4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ57 ,  4H049VR21 ,  4H049VR43 ,  4H049VS44 ,  4H049VT40 ,  4H049VT41 ,  4H049VU17 ,  4H049VU21 ,  4H049VW02 ,  4H049VW31 ,  4J246AA03 ,  4J246AB13 ,  4J246BA12X ,  4J246BA120 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB022 ,  4J246CA68X ,  4J246CA680 ,  4J246CA72X ,  4J246CA720 ,  4J246CA74X ,  4J246CA740 ,  4J246CA790 ,  4J246CA820 ,  4J246EA15 ,  4J246FA061 ,  4J246FA131 ,  4J246FA421 ,  4J246FD06 ,  4J246HA22 ,  4J246HA32
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM