特許
J-GLOBAL ID：201003020827327660
積層フィルムの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-241671
公開番号（公開出願番号）：特開2010-197991
出願日： 2009年10月20日
公開日（公表日）： 2010年09月09日
要約：
【課題】偏光子保護フィルムが偏光子の一方主面にのみ形成された偏光板の湾曲を抑制でき、また、リワーク処理の際に糊残りの生じることのない積層フィルムの製造方法を提供することにある。【解決手段】偏光子1の一方主面に、接着剤層2を介して偏光子保護フィルム3を積層して偏光板を形成し、前記偏光子1の他方主面に、粘着剤層4を介して離型フィルム5を積層してなる、積層フィルムの製造方法であって、前記偏光子保護フィルム3と、前記離型フィルム5のうち、少なくともいずれか一方の透湿度が、40°C、90%RHの雰囲気下において、150g/m2・24h以上であって、前記偏光子1と、前記偏光子保護フィルム3と、前記離型フィルム5とを積層した後に乾燥する工程を有することを特徴とする構成である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
偏光子の一方主面に、接着剤層を介して偏光子保護フィルムを積層して偏光板を形成し、前記偏光子の他方主面に、粘着剤層を介して離型フィルムを積層してなる、積層フィルムの製造方法であって、
前記偏光子保護フィルムと、前記離型フィルムのうち、少なくともいずれか一方の透湿度が、40°C、90%RHの雰囲気下において、150g/m2・24h以上であって、前記偏光子と、前記偏光子保護フィルムと、前記離型フィルムとを積層した後に乾燥する工程を有することを特徴とする積層フィルムの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (14件)：
2H149AA02
, 2H149AB16
, 2H149AB19
, 2H149BA02
, 2H149CA02
, 2H149EA12
, 2H149EA22
, 2H149FA01X
, 2H149FA02X
, 2H149FA03W
, 2H149FA63
, 2H149FB01
, 2H149FD18
, 2H149FD19
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (7件)
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